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1.发明专利
公开(公告)号：KR102223889B1
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020190120990A
申请日：2019-09-30
Applicant: 한국재료연구원
IPC: G01N27/416 , C25D21/18 , G01N27/42
CPC classification number: G01N27/4167 , C25D21/18 , G01N27/42
Abstract: 본 발명은 구리 도금공정 중 도금액에 포함된 도금 첨가제의 분해 산물인 일가 구리이온(Cu
+ ), 3-머캡토프로필 설포네이트(3-mercaptopropyl sulfonate, MPS), 또는 Cu
+ -MPS의 농도를 직접적으로 연속하여 측정할 수 있는 측정방법, 전기화학적 측정 셀, 및 측정 장치에 관한 것이다.-
公开(公告)号：WO2022102806A1
公开(公告)日：2022-05-19
申请号：PCT/KR2020/015816
申请日：2020-11-11
Applicant: 한국재료연구원
Abstract: 본 발명의 일 관점에 따르면, 염소 이온 측정센서가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 하우징의 내부 공간에 충진된 전해질 및 상기 전해질 내에 침지되는 Ag/AgCl 전극을 포함하는 기준전극 및 AgCl이 코팅된 Ag 부재로 구성되는 작업전극으로 이루어질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 작업전극은 표면의 적어도 일부에 그래핀 산화물(graphene oxide)이 코팅된 것일 수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2021100988A1
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：PCT/KR2020/005365
申请日：2020-04-23
Applicant: 한국재료연구원
IPC: G01N27/416 , G01N27/333 , G01N27/403 , H01B1/20 , C08J5/22
Abstract: 본 발명은 기본전해질, 분산제 및 첨가제를 포함하고, 상기 첨가제는 HEC(Hydroxyethyl cellulose)인 것을 특징으로 하는 전해질 및 이를 포함하는 부식 센서 및 염화 이온 측정센서에 관한 것으로, 상기 염화 이온 측정 센서는 콘크리트 내부로의 염화 이온 침투를 모니터링하기 위해, 내부공간을 포함하는 하우징, 상기 하우징의 내부공간으로 삽입되는 기준전극, 상기 하우징의 내부공간에 위치하고, 상기 기준전극이 침지되는 전해질 및 상기 하우징의 일정 영역에 위치하고, 상기 전해질과 접촉하도록 형성되는 멤브레인을 포함하고, 상기 멤브레인은 이온교환 고분자(ionophore)를 포함하는 물질로 표면이 코팅될 수 있다.
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公开(公告)号：WO2021066413A1
公开(公告)日：2021-04-08
申请号：PCT/KR2020/013101
申请日：2020-09-25
Applicant: 한국재료연구원
IPC: G01N27/416 , G01N27/42 , C25D21/18
Abstract: 본 발명은 구리 도금공정 중 도금액에 포함된 도금 첨가제의 분해 산물인 일가 구리이온(Cu+), 3-머캡토프로필 설포네이트(3-mercaptopropyl sulfonate, MPS), 또는 Cu+-MPS의 농도를 직접적으로 연속하여 측정할 수 있는 측정방법, 전기화학적 측정 셀, 및 측정 장치에 관한 것이다.
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5.发明申请
公开(公告)号：WO2021066412A1
公开(公告)日：2021-04-08
申请号：PCT/KR2020/013100
申请日：2020-09-25
Applicant: 한국재료연구원
IPC: G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/404 , G01N27/416 , C25D3/38
Abstract: 본 발명은 도금공정 중 도금액에 포함된 도금 첨가제의 분해 산물인 일가 구리이온(Cu+), 3-머캡토프로필 설포네이트(3-mercaptopropyl sulfonate, MPS), 또는 Cu+-MPS의 농도를 직접적으로 연속하여 측정할 수 있는 측정방법, 전기화학적 측정 셀, 및 측정 장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2022169072A1
公开(公告)日：2022-08-11
申请号：PCT/KR2021/016054
申请日：2021-11-05
Applicant: 한국재료연구원
Abstract: 본 발명은 전기도금법으로 형성된 접합층 및 확산방지 구조를 포함하는 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명은 접합성능이 우수하며 박리 및 크랙을 방지되며 대면적으로 대량생산이 저비용으로 가능한 전기도금법으로 형성된 접합층 및 확산방지 구조를 포함하는 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR102223889B1
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020190120990
申请日：2019-09-30
Applicant: 한국재료연구원
IPC: G01N27/416 , G01N27/42 , C25D21/18
Abstract: 본발명은구리도금공정중 도금액에포함된도금첨가제의분해산물인일가구리이온(Cu+), 3-머캡토프로필설포네이트(3-mercaptopropyl sulfonate, MPS), 또는 Cu+-MPS의농도를직접적으로연속하여측정할수 있는측정방법, 전기화학적측정셀, 및측정장치에관한것이다.
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