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公开(公告)号:KR102212969B1
公开(公告)日:2021-02-05
申请号:KR1020180160547
申请日:2018-12-13
Applicant: 한국전기연구원
IPC: C01B32/194 , C01B32/198 , C01B33/02 , H01M4/02
Abstract: 본발명은폴리머가첨가된산화그래핀환원물-실리콘금속입자복합체제조방법, 이에의하여제조되는복합체및 복합체를이용하는이차전지용음극재에관한것으로, 양이온-파이상호작용을통하여산화그래핀환원물을제조하는산화그래핀환원물제조단계, 실리콘금속입자에폴리머를코팅후 상기산화그래핀환원물과복합화하는제1과정및 상기산화그래핀환원물에상기폴리머를코팅후 상기실리콘금속입자와복합화하는제2과정중 어느하나를이용하여복합체분산용액을제조하는복합체분산용액제조단계, 상기복합체분산용액을분무건조하여코어-쉘구조의복합체분말을제조하는복합체분말제조단계를포함하는것을기술적요지로한다. 이에의하여제조된폴리머가첨가된산화그래핀환원물-실리콘금속입자복합재는소재간 접착력이향상되며, 복합체를음극재로이용하는이차전지는고용량및 안정적사이클을형성하고음극재의대량생산이가능한효과를얻을수 있다.
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公开(公告)号:KR102241526B1
公开(公告)日:2021-04-16
申请号:KR1020180160539
申请日:2018-12-13
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01M4/1397 , H01M4/1393 , H01M4/38 , H01M4/587 , H01M4/62 , H01M4/36 , H01M4/04 , C01B32/198 , C01B33/02
Abstract: 본발명은산화그래핀환원물-실리콘금속입자복합체를포함하는고밀도음극재제조방법및 이에의하여제조되는음극재를포함하는이차전지용전극에관한것으로, 양이온-파이상호작용을통하여산화그래핀환원물을제조하는산화그래핀환원물제조단계; 실리콘금속입자에폴리머를코팅후 상기산화그래핀환원물과복합화하는제1과정및 상기산화그래핀환원물에상기폴리머를코팅후 상기실리콘금속입자와복합화하는제2과정중 어느하나를이용하여복합체분산용액을제조하는복합체분산용액제조단계; 상기복합체분산용액을분무건조하여코어-쉘구조의복합체분말을제조하는복합체분말제조단계; 상기복합체분말에천연흑연및 인조흑연을배합하여음극재슬러리를제조하는슬러리제조단계; 및상기슬러리를집전체에도포하는음극재제조단계;를포함하는것을기술적요지로한다. 이에의하여제조된음극재를포함하는이차전지용전극은고용량및 안정적사이클성능을향상시킬수 있다.
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