公开(公告)号：KR101371680B1

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：KR1020110044757

申请日：2011-05-12

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 박효열 ,  강동준 ,  안명상 ,  구동건 ,  김동환 ,  김종환 ,  김태희 ,  류봉기 ,  황차원

IPC: C03C8/08 ,  C03C8/14 ,  C03C8/24 ,  C03C3/16

Abstract: 본 발명은 방사율 향상을 위한 적외선 방사 코팅용 페이스트에 관한 것으로서, 전체 유리 프릿에 대해 인산(P
2 O
5 ) 10~60몰%, 전체 유리 프릿에 대해 산화칼륨(K
2 O) 10~40몰%, 전체 유리 프릿에 대해 산화알루미늄(Al
2 O
3 ) 10~40몰% 및 전체 유리 프릿에 대해 붕산(B
2 O
3 ) 10~20몰%를 포함하여 구성되는 유리 프릿 조성물에 적외선 방사 분말을 첨가하되, 상기 적외선 방사 분말은 상기 유리 프릿 조성물과 적외선 방사 분말 혼합물 35~95중량부에 대해 1~65중량부로 첨가되는 것을 특징으로 하는 저온 소성 유리 프릿 조성물을 이용한 적외선 방사 코팅용 페이스트를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 본 발명은, 유리 프릿 조성물에 납과 비스무스 등 중금속 성분을 포함하지 않으므로 친환경적이며, 저온 소성이 가능하여 유리 프릿 조성물의 연화점 및 유리 전이 온도가 낮으면서도 유동성이 우수하여 저온 봉착 공정을 효율적으로 수행할 수 있어, 적외선 방사 피막의 기판과의 부착성이 우수하여 방사율을 더 높이는 이점이 있다.

公开(公告)号：KR1020120126733A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：KR1020110044757

申请日：2011-05-12

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 박효열 ,  강동준 ,  안명상 ,  구동건 ,  김동환 ,  김종환 ,  김태희 ,  류봉기 ,  황차원

IPC: C03C8/08 ,  C03C8/14 ,  C03C8/24 ,  C03C3/16

CPC classification number: C03C8/14 ,  C03C3/14 ,  C03C3/16 ,  C03C3/23 ,  C03C8/08

Abstract: PURPOSE: A paste for radiation coating using low temperature sintered glass frit composition is provided to maintain high emissivity for long time and to enhance adhesive force with a substrate. CONSTITUTION: A paste for radiation coating using low temperature sintered glass frit composition comprises glass frit composition and infrared radiation powder. The glass frit composition comprises 10-60 mole% of phosphoric acid(P2O5), 10-40 mole% of potassium oxide, 10-40 mole% of aluminum oxide, and 10-20 mole% of boric acid. 1-65 parts by weight of the infrared radiation powder is added based on 35-95 parts by weight of a mixture including the glass frit composition and the infrared radiation powder. The glass frit composition additionally includes 0.01-10 mole% of one of lithium oxide(Li2O) and sodium oxide(Na2O) or a mixture thereof. The infrared radiation powder is one or jade, sericite, cordierite, germanium, ferric oxide, muscovitum, manganese dioxide, silicon carbide, maeksum-seok, carbon, copper oxide, cobalt oxide, nickel oxide, antimony peroxide (Sb2O5), tin oxide (SnO2), chromium oxide (Cr2O3), boron nitride, aluminum-nitride and silicon nitride or a mixture thereof. The dilatometric softening temperature of the glass frit composition is 300-500 deg. Celsius.

Abstract translation: 目的：提供一种用于使用低温烧结玻璃料组合物的辐射涂层用于长时间保持高发射率并增强与基材的粘附力的糊状物。 构成：使用低温烧结玻璃料组合物的用于辐射涂层的糊料包括玻璃料组合物和红外辐射粉末。 玻璃料组合物包含10-60摩尔％的磷酸（P2O5），10-40摩尔％的氧化钾，10-40摩尔％的氧化铝和10-20摩尔％的硼酸。 基于35-95重量份的包含玻璃料组合物和红外线辐射粉末的混合物，加入1-65重量份的红外线辐射粉末。 玻璃料组合物另外包含0.01-10摩尔％的氧化锂（Li 2 O）和氧化钠（Na 2 O）之一或其混合物。 红外线辐射粉是一种或多种翡翠，绢云母，堇青石，锗，氧化铁，白云母，二氧化锰，碳化硅，麦草，碳，氧化铜，氧化钴，氧化镍，过氧化锑（Sb2O5） SnO 2），氧化铬（Cr 2 O 3），氮化硼，氮化铝和氮化硅或其混合物。 玻璃料组合物的膨胀软化温度为300-500度。 摄氏度。