公开(公告)号：WO2017048071A1

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：PCT/KR2016/010367

申请日：2016-09-13

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 정대영 ,  발라산카아시나라야난

IPC: B29C33/38 ,  C25D11/02 ,  C25F3/00 ,  C25F3/16 ,  C25F3/20 ,  C23F1/10 ,  B24B19/20 ,  G03F7/00

CPC classification number: B24B19/20 ,  B29C33/38 ,  C23F1/10 ,  C25D11/02 ,  C25F3/00 ,  C25F3/16 ,  C25F3/20 ,  G03F7/00

Abstract: 본 발명은, 초발수용 몰드 제조방법, 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 및 그 제조방법에 있어서, 몰드용 금속 표면에 포토레지스트를 결합하는 단계와; 리소그래피를 통해 상기 포토레지스트를 감광하여 감광 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 상기 감광 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 제1양극산화층을 형성하는 단계와; 상기 제1양극산화층을 식각 제거하여 상기 감광 마이크로 패턴보다 깊게 함몰되며 나노시드를 포함하는 양극산화 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 나노시드를 포함하는 상기 양극산화 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 양극산화 나노 패턴을 포함하는 제2양극산화층을 형성하는 단계와; 나노기공으로 이루어진 상기 양극산화 나노 패턴을 식각하여 상기 나노기공의 직경 및 함몰 깊이를 조절하는 단계를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 양극산화 마이크로 패턴을 얻기 위해 식각 및 양극산화하는 단계 중 식각하는 단계를 거치지 않아 공정이 단순해지며 이를 통해 제조비용 및 제조시간을 줄일 수 있으며, 또한 양극산화를 이용하여 포토레지스트와 금속 간의 결합력이 유지되며, 양극산화 시간을 조절을 통해 마이크로 패턴의 깊이를 증가시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种制造超疏水性模具的方法，使用超疏水性模具的超疏水材料及其制造方法，该方法包括以下步骤：将光致抗蚀剂粘合到模具的金属表面; 通过光刻将光致抗蚀剂曝光以形成光敏微图案; 通过阳极氧化在感光微图案上形成第一阳极氧化层; 蚀刻和去除第一阳极氧化层以形成包括比光敏微图案深的凹陷的纳米籽粒的阳极氧化微图案; 在阳极氧化微图案上形成包括阳极氧化纳米图案的第二阳极氧化层，其包括通过阳极氧化的纳米线; 并蚀刻由纳米孔形成的阳极氧化纳米图案，以调节纳米孔的直径和凹陷深度。 结果，为了获得阳极氧化微图案，不进行蚀刻处理和阳极氧化处理，从而可以简化工艺。 因此，可以降低制造成本和制造时间。 此外，阳极氧化保持光致抗蚀剂和金属之间的结合力，并且可以通过控制阳极氧化时间来增加微图案深度。