公开(公告)号：KR1020090107696A

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：KR1020080033098

申请日：2008-04-10

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 이정호 ,  신현관 ,  김범석 ,  성민재 ,  전종열

IPC: C07C59/125 ,  C07C51/23

Abstract: PURPOSE: An alkyl 2-t-butoxyethoxy-acetate compound is provided to be used as a solvent of a release agent, ink, and paint and to selectively manufacture an alkyl 2-t-butoxyethoxy-acetate compound. CONSTITUTION: An alkyl 2-t-butoxyethoxy-acetate compound is represented by chemical formula (I), wherein R' is methyl or ethyl group. A method for manufacturing the alkyl 2-t-butoxyethoxy-acetate compound comprises a step of reacting a compound of chemical formula (II) and a compound of dioxanone chemical formula (III) in the presence of an acid catalyst.

Abstract translation: 目的：提供2-叔丁氧基乙氧基乙酸烷基酯化合物用作脱模剂，油墨和油漆的溶剂，并选择性地制备2-叔丁氧基乙氧基乙酸烷基酯化合物。 构成：2-叔丁氧基乙氧基乙酸酯化合物由化学式（I）表示，其中R'是甲基或乙基。 制备2-叔丁氧基乙氧基 - 乙酸2-烷基酯化合物的方法包括在酸催化剂存在下使化学式（II）的化合物与二恶烷酮化学式（III）的化合物反应的步骤。

公开(公告)号：KR100948498B1

公开(公告)日：2010-03-23

申请号：KR1020080033098

申请日：2008-04-10

Applicant: 한국화학연구원

Inventor： 이정호 ,  신현관 ,  김범석 ,  성민재 ,  전종열

IPC: C07C59/125 ,  C07C51/23

Abstract: 본원 발명은 하기 화학식 (I) 로 표시되는 신규 화합물, 메틸 2-t-부톡시에톡시-아세테이트 (MTBEA) 또는 에틸 2-t-부톡시에톡시-아세테이트 (ETBEA) 및 이의 제조 방법에 관한 것이다:
(I)
[식 중, R' 은 메틸 또는 에틸기임].
상기 화학식 (I) 로 표시되는 화합물은 반도체 또는 LCD 의 제조에 있어서, 웨이퍼 표면의 포토레지스트 막을 박리하기 위한 박리제, 잉크, 페인트 등에 사용되는 용제, 암모니아, 아민 등과 같은 화합물과 반응하여 아미드 화합물을 생성할 수 있는 중간체 등으로 사용될 수 있다.
알킬 2-t-부톡시에톡시-아세테이트 (알킬은 메틸 또는 에틸기임), 박리제, 파라-디옥사논