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公开(公告)号：CN103064256A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210316513.4
申请日：2012-08-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 皮特·C·康切尔斯伯格
CPC classification number: H02K41/03 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70825 , G05B19/402 , G05B2219/42231 , H02K2201/18 , H02P25/06
Abstract: 本发明公开了一种线性电机和包括线性电机的光刻布置。光刻设备包括均匀性校正系统。根据本发明的实施例，提供了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束。照射系统包括定位在一平面处的均匀性校正系统，配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳。所述均匀性校正系统包括配置成可移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出的指状件，以便校正辐射束的相应部分的强度。线性电机致动器布置驱动指状件至它们相应的适合位置，用于补偿非均匀照射。由精确地操纵指状件的承载装置的控制系统来提供控制。
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公开(公告)号：CN101923293B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201010249847.5
申请日：2010-05-28
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： 理查德·卡尔·齐默曼 , 亨德里克斯·罗伯特·玛丽·范格立布鲁克 , 皮特·C·康切尔斯伯格 , 托德·R·丹尼 , 伊丽莎白·斯通 , 西拉特·伊什特万·希萨 , 弗德里克斯·忽必克 , 奥尔加·弗拉基米尔
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133
Abstract: 公开了一种用于照射均匀性校正和均匀性漂移补偿的光刻设备和方法。具体地，公开一种光刻设备，其包括均匀性校正系统。系统指状物配置为可移入和移出与辐射束的相交处，以便校正所述辐射束的各部分的强度。系统还包括致动装置，其耦合至所述指状物中的相应一个并配置为移动相应的指状物。每一个指状物的尖端的宽度是致动装置的宽度的一半。提供系统和方法用于补偿均匀性漂移。测量由系统漂移引起的照射狭缝均匀性并由此确定均匀性补偿器的第一各自位置。移动均匀性补偿器至第一各自位置。曝光衬底。
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公开(公告)号：CN101923293A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010249847.5
申请日：2010-05-28
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： 理查德·卡尔·齐默曼 , 亨德里克斯·罗伯特·玛丽·范格立布鲁克 , 皮特·C·康切尔斯伯格 , 托德·R·丹尼 , 伊丽莎白·斯通 , 西拉特·伊什特万·希萨 , 弗德里克斯·忽必克 , 奥尔加·弗拉基米尔
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133
Abstract: 公开了一种用于照射均匀性校正和均匀性漂移补偿的光刻设备和方法。具体地，公开一种光刻设备，其包括均匀性校正系统。系统指状物配置为可移入和移出与辐射束的相交处，以便校正所述辐射束的各部分的强度。系统还包括致动装置，其耦合至所述指状物中的相应一个并配置为移动相应的指状物。每一个指状物的尖端的宽度是致动装置的宽度的一半。提供系统和方法用于补偿均匀性漂移。测量由系统漂移引起的照射狭缝均匀性并由此确定均匀性补偿器的第一各自位置。移动均匀性补偿器至第一各自位置，曝光衬底。
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公开(公告)号：CN103064256B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201210316513.4
申请日：2012-08-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 皮特·C·康切尔斯伯格
CPC classification number: H02K41/03 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70825 , G05B19/402 , G05B2219/42231 , H02K2201/18 , H02P25/06
Abstract: 本发明公开了一种线性电机和包括线性电机的光刻布置。光刻设备包括均匀性校正系统。根据本发明的实施例，提供了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束。照射系统包括定位在一平面处的均匀性校正系统，配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳。所述均匀性校正系统包括配置成可移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出的指状件，以便校正辐射束的相应部分的强度。线性电机致动器布置驱动指状件至它们相应的适合位置，用于补偿非均匀照射。由精确地操纵指状件的承载装置的控制系统来提供控制。
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