公开(公告)号：CN114174929B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202080054578.9

申请日：2020-07-22

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： M·埃拉尔普

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种对准方法，包括：将具有变化的波长或频率的照射束引向对准目标，从对准目标收集衍射束并引向干涉仪。对准方法还包括通过干涉仪从衍射束产生两个衍射子束，其中衍射子束被正交偏振、围绕对准轴相对于彼此旋转180度，并且在空间上重叠。对准方法还包括基于时间相移测量衍射束的干涉强度，其中时间相移是照射束的变化的波长或频率和衍射束之间的固定光程差的函数。对准方法还包括根据测量的干涉强度确定对准目标的位置。

公开(公告)号：CN114174929A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202080054578.9

申请日：2020-07-22

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： M·埃拉尔普

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种对准方法，包括：将具有变化的波长或频率的照射束引向对准目标，从对准目标收集衍射束并引向干涉仪。对准方法还包括通过干涉仪从衍射束产生两个衍射子束，其中衍射子束被正交偏振、围绕对准轴相对于彼此旋转180度，并且在空间上重叠。对准方法还包括基于时间相移测量衍射束的干涉强度，其中时间相移是照射束的变化的波长或频率和衍射束之间的固定光程差的函数。对准方法还包括根据测量的干涉强度确定对准目标的位置。

公开(公告)号：CN116601484A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180082336.5

申请日：2021-12-02

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： S·索科洛夫 ,  S·R·惠斯曼 ,  廉晋 ,  S·A·戈登 ,  M·埃拉尔普 ,  H·P·M·佩莱曼斯 ,  J·L·克鲁泽

IPC: G01N21/956

Abstract: 量测系统(400)包括多源辐射系统。多源辐射系统包括波导装置(502)并且多源辐射系统被配置为生成一个或多个辐射束。量测系统(400)还包括相干调整器(500)，相干调整器(500)包括多模波导装置(504)。多模波导装置(504)包括输入和输出(518)，输入被配置为接收来自多源辐射系统(514)的一个或多个辐射束，输出(518)被配置为输出用于辐照目标(418)的经相干调整的辐射束。量测系统(400)还包括致动器(506)，致动器(506)被耦合到波导装置(502)并且被配置为致动波导装置(502)，以便改变多模波导装置(504)的输入处的一个或多个辐射束的冲击特性。