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公开(公告)号：CN107003624A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580068285.5
申请日：2015-11-19
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70133 , G01N21/4738 , G01N2201/061 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G02B5/04 , G02B27/106 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70208
Abstract: 一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107003624B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201580068285.5
申请日：2015-11-19
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。
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公开(公告)号：CN109416514B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201780041224.9
申请日：2017-06-16
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： Y·K·斯玛雷弗 , M·F·A·厄尔林斯
IPC: G03F7/20 , G01B9/04 , G01B11/02 , G01N21/956 , G01N21/47
Abstract: 用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径，且可以设置在对应于照射模式的多个照射位置中。反射式SLM的像素阵列将由IMS透射的子束的一部分反射回至IMS和PBS。PBS、IMS、SLM共同地产生透射子束的复波幅或强度空间分布。
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公开(公告)号：CN109416514A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780041224.9
申请日：2017-06-16
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： Y·K·斯玛雷弗 , M·F·A·厄尔林斯
IPC: G03F7/20 , G01B9/04 , G01B11/02 , G01N21/956 , G01N21/47
CPC classification number: G03F7/70625 , G01N21/47 , G01N21/956 , G02B5/005 , G02B26/0833 , G02B27/283 , G03F7/70633
Abstract: 用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径，且可以设置在对应于照射模式的多个照射位置中。反射式SLM的像素阵列将由IMS透射的子束的一部分反射回至IMS和PBS。PBS、IMS、SLM共同地产生透射子束的复波幅或强度空间分布。
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公开(公告)号：CN111149062B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201880062392.0
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被配置为分别并且同时测量这些部分的检测器系统。
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公开(公告)号：CN111149062A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201880062392.0
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被配置为分别并且同时测量这些部分的检测器系统。
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