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公开(公告)号：CN118103942A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202280068587.2
申请日：2022-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 一些实施例涉及用于形成掩埋结构的图像的方法或装置，其包括：从源发射初级带电粒子；接收来自样品的多个次级带电粒子；以及基于所接收的具有第一范围内的能量的次级带电粒子来形成图像。
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