公开(公告)号：CN1477449A

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN03143857.1

申请日：2003-06-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·C·M·弗里森 ,  J·C·坎普特 ,  R·塔波尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70758 ,  H02K3/18 ,  H02K3/325 ,  H02K41/03 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

Abstract: 一种用于光刻投射装置内的激励器中的线圈20。该线圈20由围绕着线圈轴22缠绕的电学导电片材带21制成。片材带21的各匝被不导电层25隔开。

公开(公告)号：CN100351703C

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN03143857.1

申请日：2003-06-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·C·M·弗里森 ,  J·C·坎普特 ,  R·塔波尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70758 ,  H02K3/18 ,  H02K3/325 ,  H02K41/03 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明涉及一种光刻投射装置，包括：辐射系统，用于提供辐射投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，所述构图部件用于根据所需图案对投射光束进行构图；基底台，用于保持基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上；和激励器，用于当电流流经激励器的线圈时在所述装置内的两个部件之间产生力；其特征在于：所述线圈是围绕着线圈轴绕制而成的线盘，一电学导电片材带嵌入所述线盘中从而其能基本平行于所述线圈的线圈轴。