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公开(公告)号：KR20200138728A
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：KR20207026977
申请日：2019-03-20
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor： ZHANG KEVIN WEIMIN , PURVIS MICHAEL ANTHONY , STINSON CORY ALAN
Abstract: 시스템은, 수정된광빔을생성하기위해광빔과상호작용하도록구성된공간변조디바이스 - 수정된광빔은수정된광빔의전파방향에수직인방향을따라불균일한세기를갖는광의공간패턴을포함하고, 광의공간패턴은하나이상의광 성분을포함함 -; 및플라즈마상태에있을때 EUV 광을방출하는타겟재료를포함하는타겟을타겟영역에제공하도록구성된타겟공급시스템을포함한다. 타겟영역은수정된광빔내의하나이상의광 성분중 적어도일부가타겟의부분과상호작용하도록빔 경로와중첩된다.
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