COMPOSICIÓN POLIMÉRICA QUE COMPRENDE POLIAMIDA Y UN COMPUESTO DE UREA, CON PROPIEDADES ÓPTICAS MEJORADAS.

    公开(公告)号:MX365598B

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:MX2014011297

    申请日:2013-03-19

    Applicant: BASF SE

    Abstract: La presente invención se refiere a una composición polimérica que comprende al menos una poliamida y al menos un compuesto de urea de la fórmula I (ver Fórmula) donde x es 1, 2 ó 3; R1 y R2 se seleccionan de hidrógeno, alquilo C1-C7 lineal, alquilo C3-C10 ramificado, cicloalquilo C3-C12 no sustituido o sustituido, cicloalquil C3-C12- alquilo C1-C4 no sustituido o sustituido, arilo no sustituido o sustituido y aril-alquilo C1-C4 no sustituido o sustituido; y Z está seleccionado de alcan C3-C10-diílo, arileno no sustituido o sustituido, arilen-alquilen C1-C4-arileno no sustituido o sustituido, heteroarileno no sustituido o sustituido, heteroarilen-alquilen C1-C4-heteroarileno no sustituido o sustituido, cicloalquileno C5-C8 no sustituido o sustituido, cicloalquilen C5-C8-alquilen C1-C4-cicloalquileno C5-C8, heterocicloalquileno no sustituido o sustituido y heterocicloalquilen-alquilen C1-C4-heterocicloalquile no. Este compuesto de urea se usa para mejorar las propiedades ópticas de la composición polimérica de poliamida. La presente invención también se refiere a artículos moldeados obtenidos de dicha composición y a nuevos compuestos de urea.

    ?utilização de composições de moldagem termoplástica, artigo moldado e composição de moldagem termoplástica?

    公开(公告)号:BR112018000725A2

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:BR112018000725

    申请日:2016-07-13

    Applicant: BASF SE

    Abstract: a presente invenção se refere à utilização de massas de moldagem termoplástica para a produção de corpos moldados de qualquer tipo que possuem propriedades óticas aprimoradas, ditas massas de moldagem compreendem (a) de 30 a 99,99% em peso de uma poliamida termoplástica, (b) de 0,01 a 10% em peso de um composto de fórmula i, em que os substituintes possuem os seguintes significados: (a) representa um (vide ii) ou resíduo -o-r5 (vide iii) ou (b) representa um (vide iv) ou resíduo -o-r6 (vide v) e o substituinte z representa os radicais alquileno c1-c14 lineares ou ramificados, os radicais cicloalquileno não substituídos ou substituídos contendo de 3 a 17 átomos de carbono, os radicais aromáticos substituídos ou não substituídos contendo de 6 a 20 átomos de carbono, r1 a r10, independentemente entre si, representam os radicais alquila c1-c14 lineares, radicais alquila c3-c12 ramificados, radicais cicloalquila c3-c14 não substituídos ou substituídos, radicais aromáticos não substituídos ou substituídos contendo de 6 a 20 átomos de carbono ou radicais acetila, r1 e r2 e também r3 e r4, independentemente entre si, em conjunto com o nitrogênio como um membro de ligação, formam um radical heteroalquileno que pode suportar um ou dois grupos ceto como substituinte, (c) de 0 a 60% em peso de aditivos adicionais, em que as porcentagens em peso para os componentes de (a) a (c) totalizam até 100%.

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