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    PELICULAS SOPLADAS MONO Y MULTICAPA.
    3.
    发明专利
    PELICULAS SOPLADAS MONO Y MULTICAPA. 未知

    公开(公告)号：ES2352579T3

    公开(公告)日：2011-02-21

    申请号：ES07717674

    申请日：2007-03-19

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HORNBACH KARL-HEINZ ,  STOLL KLAUS

    IPC: B32B27/00

    Abstract: Una película soplada clarificada extrudida enfriada con aire que tiene a) un espesor total de 5 a 500 μm, b) una estructura monocapa o de 2 a 9 capas coextrudidas, c) al menos una capa L que contiene un polímero, preferiblemente un polímero isotáctico, seleccionado del grupo que consiste de homopolímeros de polipropileno, copolímeros aleatorios de polipropileno, copolímeros en bloque de polipropileno heterofásicos, o cualquier mezcla de los mismos, teniendo dicho polímero una tasa de flujo del fundido, de acuerdo con la norma ASTM D-1238, de 0.1 a 10 dg/min a 230°C y 2.16 kg, conteniendo además dicha capa L de 0.001 a 2 %, con relación al peso del polímero, de un agente de nucleación de la fórmula (IA), (IB) o (IC), siendo el significado de las fórmulas (IA), (IB) y (IC): en donde x e y son un entero de 2 a 6; z' y z" independientemente uno del otro son un entero de 1 a 5 con la condición de que la suma de z' y z" sea un entero de 2 a 6; X0 es un residuo que se forma por la eliminación de x grupos carboxilo de un ácido policarboxílico alifático saturado o no saturado que tiene de 3 a 25 átomos de carbono, un residuo que se forma por la eliminación de x grupos carboxilo de un ácido policarboxílico alicíclico saturado o no saturado que tiene de 7 a 25 átomos de carbono o un residuo que se forma por la eliminación de x grupos carboxilo de un ácido policarboxílico aromático que tiene de 8 a 25 átomos de carbono; cualquiera de dichos ácidos policarboxílicos contiene opcionalmente otros hetero átomos en su esqueleto; los radicales X1 independientemente uno del otro son alquilo C1 - C20 sustituido o no sustituido por uno o más grupos hidroxi, amino y/o nitro; alquenilo C2 - C20 sustituido o no sustituido por uno o más grupos hidroxi, amino y/o nitro; alquilo C2 - C20 interrumpido por oxígeno o azufre; cicloalquilo C3 - C12 sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; (cicloalquilo C3 - C12) - alquilo C1 - C10 sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; bis[cicloalquilo C3 - C12] - alquilo C1 - C10 sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; un radical hidrocarbonado bicíclico o tricíclico con 5 a 20 átomos de carbono sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; fenilo sustituido o no sustituido por uno o más radicales seleccionados entre alquilo C1 - C20, alcoxi C1 - C20, alquil C1 - C20 amino, di(alquil C1 - C20)amino, amino, hidroxi y nitro; fenil-alquilo C1 - C20 sustituido o no sustituido por uno o más radicales seleccionados entre alquilo C1 - C20, cicloalquilo C3 - C12, fenilo, alcoxi C1 - C20, amino, hidroxi y nitro; feniletenilo sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; bifenil-(alquilo C1 - C10) sustituido o no sustituido por uno o más alquilo C1 - C20; naftilo sustituido o no sustituido por uno o más alquilo C1 - C20; naftil-alquilo C1 - C20 sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; naftoximetilo sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; bifenilenilo, fluorenilo, antrilo; un radical heterocíclico de 5 a 6 miembros sustituido o no sustituido por uno o más alquilos C1 - C20; un radical hidrocarbonado C1 - C20 que contiene uno o más halógenos o pseudo-halógenos; tri(alquil C1 - C10)sililo; o tri(alquil C1 - C10)silil(alquilo C1 - C10); Y0 es un residuo que se forma por la eliminación de y grupos amino de una poliamina alifática saturada o insaturada que tiene de 3 a 25 átomos de carbono, un residuo que se forma por la eliminación de y grupos amino de una poliamina alicíclica saturada o insaturada que tiene de 6 a 25 átomos de carbono o un residuo que se forma por eliminación de y grupos amino de una poliamina aromática que tiene de 6 a 25 átomos de carbono; cualquiera de dichas poliaminas contiene opcionalmente heteroátomos adicionales en su esqueleto; los radicales Y1 independientemente unos de otros tienen una de las definiciones de X1; Z0 es un residuo que se forma por eliminación de z' grupos amino y z" grupos carboxilo de un ácido carboxílico amino alifático saturado o insaturado que tiene de 2 a 25 átomos de carbono, un residuo que se forma por eliminación de z' grupos amino y z" grupos carboxilo de un ácido carboxílico amino alicíclico saturado o insaturado que tiene de 7 a 25 átomos de carbono o un residuo que se forma por eliminación de z' grupos amino y z" grupos carboxilo de un ácido carboxílico amino aromático que tiene de 7 a 25 átomos de carbono; cualquiera de dichos ácidos amino carboxílicos contiene opcionalmente más hetero átomos en su esqueleto; y los radicales Z1 y Z2 independientemente unos de otros tienen una de las definiciones dadas para X1

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