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公开(公告)号:ES2369149T3
公开(公告)日:2011-11-25
申请号:ES06754945
申请日:2006-05-02
Applicant: BASF SE
Inventor: CENTNER ALEXANDER , ARISANDY CHRISTOFER , FLICK DIETER , RUCKPAUL MARKUS , SEIBERT HORST
IPC: C09J133/08 , C08F220/12 , C09J133/10 , C09J143/04
Abstract: Adhesivo que contiene (A) una resina de poliacrilato que contiene al menos un copolímero que contiene silicio de a) el 80-99,9% en peso de (met)acrilatos de alquilo C1-C20 (monómeros A) y b) el 0,1-20% en peso de al menos un anhídrido de ácido etilénicamente insaturado o de un ácido dicarboxílic5 o etilénicamente insaturado, cuyos grupos ácido carboxílico pueden formar un grupo anhídrido (monómeros B) o el 0,1-10% en peso de al menos un monómero copolimerizable por radicales que contiene al menos un grupo isocianato (monómero C) c) del 0 al 30% en peso de uno o varios monómeros etilénicamente insaturados copolimerizables por radicales (monómeros D) y d) al menos un silano de fórmula general I, II o III NHR4-R1-Si(R2)3-m(R3)m (I) SH-R1-Si(R2)3-m(R3)m (II) R5-R1-Si(R2)3-m(R3)m (III) en la que m significa el número 0, 1 ó 2, R1 significa una cadena de hidrocarburo con hasta 10 átomos de C, que puede estar interrumpida por oxígeno o nitrógeno R2 significa grupos hidrolizables iguales o diferentes y R3 significa grupos alquilo C1-C6 iguales o diferentes R4 significa un resto hidrógeno o una cadena de hidrocarburo con hasta 10 átomos de C, que puede contener oxígeno o nitrógeno y R5 significa un resto epóxido o un resto 3,4-epoxiciclohexilo, preparándose un polímero de partida a partir de los monómeros A a D según el procedimiento en sí conocido de polimerización en disolución por radicales y añadiéndose a esta disolución o masa fundida los silanos d), (B) cargas (C) adyuvantes habituales adicionales así como (D) el 0-60% en peso de plastificante, caracterizado porque el contenido de la resina de poliacrilato A) asciende a del 30 al 70% en peso.
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公开(公告)号:ES2617222T3
公开(公告)日:2017-06-15
申请号:ES10711415
申请日:2010-03-30
Applicant: BASF SE
Inventor: WEISKOPF VERENA , WINDLIN FRANZ NIKLAUS , WINSEL HARALD , RUCKPAUL MARKUS , WULFF DIRK , DÜSTERWALD UWE , LICHT ULRIKE
IPC: C07C68/02 , C07C69/96 , C08F212/08 , C08F212/12 , C08F220/06 , C08F220/18 , C09D133/08 , C09J133/08
Abstract: Procedimiento para la preparación de soluciones de compuestos orgánicos, polimerizables por radicales libres, sensibles a la radiación, en el cual a) un primer compuesto de partida que presenta un grupo haluro ácido, y b) un segundo compuesto de partida que presenta un grupo hidroxilo de alcohol, son esterificados entre sí en un solvente o en una mezcla de solventes; y en el cual el solvente son una o varias cetonas con un punto de ebullición por debajo de 150 °C a presión atmosférica (1 bar) o la mezcla de solventes está compuesta por estas cetonas en al menos el 50 % en peso respecto de la cantidad de solventes; y uno de los dos compuestos de partida presenta al menos un grupo sensible a la radiación y el otro de los dos compuesto de partida presenta al menos un grupo etilénicamente insaturado, polimerizable por radicales libres, en cuyo caso el compuesto orgánico, polimerizable por radicales libres, sensible a la radiación, es un fotoiniciador polimerizable que puede incorporarse a la cadena polimérica de los copolímeros mediante copolimerización por radicales libres, realizándose la esterificación en presencia de al menos una amina orgánica terciaria y añadiéndose después de la reacción agua en una cantidad para que se forme una solución saturada del haluro de amonio orgánico en agua y esta solución acuosa saturada se separe de la fase orgánica, midiéndose la cantidad de agua de tal manera que la cantidad necesaria para la formación de una solución saturada no exceda en más del 10 % en peso de la cantidad teóricamente necesaria.
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公开(公告)号:AT518931T
公开(公告)日:2011-08-15
申请号:AT06754945
申请日:2006-05-02
Applicant: BASF SE
Inventor: CENTNER ALEXANDER , ARISANDY CHRISTOFER , FLICK DIETER , RUCKPAUL MARKUS , SEIBERT HORST
IPC: C09J133/08 , C08F220/12 , C09J133/10 , C09J143/04
Abstract: The present invention relates to adhesives comprising at least one silicon-comprising copolymer of C 1 -C 20 -alkyl (meth)acrylates and at least one ethylenically unsaturated acid anhydride or one ethylenically unsaturated dicarboxylic acid whose carboxyl groups can form an anhydride group, or mixtures thereof, or at least one monomer comprising an isocyanate group and capable of free radical copolymerization.
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