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    Preparados que contienen resina de epóxido y mezclas de aminas con derivados de guanidina
    3.
    发明专利
    Preparados que contienen resina de epóxido y mezclas de aminas con derivados de guanidina 未知

    公开(公告)号：ES2379691T3

    公开(公告)日：2012-04-30

    申请号：ES09780778

    申请日：2009-07-17

    Applicant: BASF SE

    Inventor： DAUN GREGOR ,  WITTENBECHER LARS ,  HENNINGSEN MICHAEL ,  FLICK DIETER ,  GEISLER JOERG-PETER ,  SCHILLGALIES JUERGEN ,  JACOBI ERHARD

    IPC: C07C279/00

    Abstract: Preparado que contiene α) o varias resinas de epóxido y β) una mezcla contiene 1) 0, 3 a 0, 9 equivalentes de amina por equivalente de epóxido del componente a) empleado, en un componente de curado a) y 2) un componente de curado b), caracterizado porque el componente de curado a) contiene una o varias aminas con una funcionalidad 2 y porque por lo menos una amina en el mezclado estequiométrico con la resina de epóxido en la carga de 100 g, a temperatura ambiente conduce a un tiempo de curado inferior a 24 h y porque el componente de curado b) que contiene por lo menos un compuesto de la fórmula I donde la proporción del componente de curado b) es 5 a 55 % en peso referido a la proporción en peso de la mezcla y en la fórmula I, R1 a R3, R5 y R6 significan independientemente uno de otro un radical orgánico con 1 a 20 átomos de C e hidrógeno y R4 es elegido de entre el grupo de un radical orgánico con 1 a 20 átomos de C y un grupo C (NH) NR5R6.

    Método para producir cuerpos moldeados con ayuda de mezclas de aminas con derivados de guanidina
    4.
    发明专利
    Método para producir cuerpos moldeados con ayuda de mezclas de aminas con derivados de guanidina 未知

    公开(公告)号：ES2376975T3

    公开(公告)日：2012-03-21

    申请号：ES09800037

    申请日：2009-07-17

    Applicant: BASF SE

    Inventor： DAUN GREGOR ,  WITTENBECHER LARS ,  HENNINGSEN MICHAEL ,  FLICK DIETER ,  GEISLER JOERG-PETER ,  SCHILLGALIES JUERGEN ,  JACOBI ERHARD

    IPC: C07C279/00

    Abstract: Método para producir cuerpos moldeados que comprende los siguientes pasos I) Proporcionar un molde, II) Introducir al molde según el paso I) una combinación (blend) que contiene una o varias resinas epóxicas y una mezcla, III) curar el material contenido en el molde, caracterizado porque la mezcla en el paso II) contiene un componente endurecedor b) y 0,3 a 0,9 equivalentes de amina, por equivalente de epóxido de las resinas epóxicas empleadas en la combinación (blend) del paso II), de un componente endurecedor a), en cuyo caso el componente endurecedor a) contiene una o varias aminas con una funcionalidad >= 2 y al menos una amina, al mezclarse de modo estequiométrico con la resina epóxica en 100 g de tanda a temperatura ambiente conduce a un tiempo de curado de menos de 24 h y el componente endurecedorb) contiene al menos un compuesto de la fórmula I **Fórmula**en cuyo caso el contenido del componente endurecedor b) es de 5 a 55 % en peso respecto de la fracción en peso de la mezcla y en la fórmula I R1 a R3, R5 y R6 significan independientemente entre sí un residuo orgánico con 1 a 20 átomos de C e hidrógeno y R4 se selecciona del grupo de un residuo orgánico con 1 a 20 átomos de C y un grupo -C(NH)NR5R6.

    Mezclas de aminas con derivados de guanidina
    10.
    发明专利
    Mezclas de aminas con derivados de guanidina 未知

    公开(公告)号：ES2377376T3

    公开(公告)日：2012-03-27

    申请号：ES09780758

    申请日：2009-07-17

    Applicant: BASF SE

    Inventor： DAUN GREGOR ,  WITTENBECHER LARS ,  HENNINGSEN MICHAEL ,  FLICK DIETER ,  GEISLER JOERG-PETER ,  SCHILLGALIES JUERGEN ,  JACOBI ERHARD

    IPC: C07C279/00

    Abstract: Mezcla que contiene un componente endurecedor a1), un componente endurecedor a2) y un componente endurecedor b), caracterizada porque como componente endurecedor a1) se emplea una poliéter-amina con una funcionalidad >=2, como componente endurecedor a2) se emplea otra amina con una funcionalidad >= 2 y como componente endurecedor b) se emplea 5 a 55 % en peso, respecto de la mezcla, del compuesto de la fórmula I, **Fórmula** con R1 a R3, R5 y R6, independientemente entre sí, seleccionados del grupo de hidrógeno; y un residuo orgánico con 1 a 20 átomos de C; y R4 se selecciona del grupo de un residuo orgánico con 1 a 20 átomos de C y de un grupo C(NH)NR5R6; en cuyo caso la proporción de a1) a a2) se encuentra en el rango de 0,1 hasta 10 a 1.

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