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公开(公告)号:BR112018008543A2
公开(公告)日:2018-10-30
申请号:BR112018008543
申请日:2016-11-02
Applicant: BASF SE
Inventor: ANDREAS GERNANDT , CLEMENS AUSCHRA , LOTHAR ENGELBRECHT , RALF KNISCHKA , REINER KRANWETVOGEL , WOLFGANG PETER
Abstract: a invenção se refere a um processo para preparação de polissiloxanos modificados com oligo ou polialquileno éter por transesterificação de polissiloxanos funcionalizados com alcóxi com oligo ou polialquileno éteres terminados em oh na presença de um ácido alcanossulfônico como catalisador. os polidimetilsiloxanos modificados com oligo ou polialquileno éter obteníveis através deste processo são adequados como agentes antiespuma, como agentes umectantes e como aditivos em formulações de material de revestimento.
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公开(公告)号:MX2016000313A
公开(公告)日:2016-08-08
申请号:MX2016000313
申请日:2014-07-03
Applicant: BASF SE
Inventor: KAI-UWE SCHÖNING , CINZIA TARTARINI , ULRICH BERENS , WOLFGANG PETER , ADALBERT BRAIG , MARKUS GROB , TANIA WEYLAND
IPC: C07D211/02 , C07D211/14 , C07D211/44
Abstract: La presente invención se refiere a diésteres simétricos de compuestos de hidroxialquil-4-hidroxi-tetraalquilpiperidina y su uso como estabilizadores de luz. Son compatibles con formulaciones de recubrimiento de diferente polaridad y solubles en estas.
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公开(公告)号:BRPI1006180A2
公开(公告)日:2019-09-24
申请号:BRPI1006180
申请日:2010-01-04
Applicant: BASF SE
Inventor: CLEMENS AUSCHRA , FRANK OLIVER HEINRICH PIRRUNG , KARIN POWELL , STEFFEN ONCLIN , SVETOZAR LUCIC , WOLFGANG PETER
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公开(公告)号:BR112018008470A2
公开(公告)日:2018-11-06
申请号:BR112018008470
申请日:2016-11-02
Applicant: BASF SE
Inventor: CLEMENS AUSCHRA , LOTHAR ENGELBRECHT , RALF KNISCHKA , REINER KRANWETVOGEL , WOLFGANG PETER
IPC: C08G77/382 , C08G77/46 , C08L83/12
Abstract: a invenção se refere ao processo para preparar oligo- ou polissiloxanos modificados com éter de polialquileno por transesterificação de polissiloxanos funcionalizados com alcóxi com éteres de oligo- ou polialquileno terminados com oh na presença do tetra-n-alcoxititanato c1-c6 como catalisador. oligo- ou polidimetilsiloxanos modificados com éter de polialquileno obteníveis através deste processo são adequados como desespumantes, como agentes umectantes, e como aditivos em formulações de material de revestimento.
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公开(公告)号:AU2010205793A1
公开(公告)日:2011-07-28
申请号:AU2010205793
申请日:2010-01-04
Applicant: BASF SE
Inventor: STEFFEN ONCLIN , SVETOZAR LUCIC , KARIN POWELL , WOLFGANG PETER , HEINRICH PIRRUNG FRANK OLIVER , CLEMENS AUSCHRA
Abstract: The present invention relates to a homogenous liquid blend comprising a photoinitiator and an alkoxylate surfactant for incorporation into aqueous based and solvent based radiation curable systems. In particular the invention relates to a homogenous liquid blend which is liquid at room temperature comprising at least 30% by weight with regard to the whole blend of a solid photoinitiator of the radical type and 1-70% by weight of at least one alkoxylated liquid surface active agent and optionally an organic diluent.
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公开(公告)号:BR112017012617A2
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:BR112017012617
申请日:2015-12-18
Applicant: BASF SE
Inventor: ADALBERT BRAIG , KATHARINA FRITZSCHE , ROLF ALLES , WOLFGANG PETER
IPC: C07D251/24 , C09D5/32
Abstract: a presente invenção se refere a uma composição de revestimento compreendendo: um ou mais composto(s) (a) de acordo com a seguinte fórmula (i) (i) em que cada r1, r2 e r3 é selecionado independentemente dentre -or4, r4 sendo independentemente hidrogênio ou um grupo hidrocarbila c1 a c24 contendo opcionalmente heteroátomos; ou grupos hidrocarbila c1 a c24 contendo opcionalmente heteroátomos; n é 2, 3, 4 ou 5; o é 2, 3, 4 ou 5; p é 2, 3, 4 ou 5; com a condição de que pelo menos um de r1 e pelo menos um de r2 e pelo menos um de r3 seja -or4 e um pigmento (b) no qual a transmitância integrada mínima está dentro da faixa de 380 a 600 nm. a presente invenção se refere adicionalmente a um revestimento obtido pela aplicação da composição de acordo com a invenção sobre um substrato. a presente invenção se refere adicionalmente ao uso dos compostos (a) e (b) acima para proteger um substrato contra radiação uv/vis. a presente invenção se refere também a um processo para a estabilização de um substrato contra a influência nociva de radiação uv/vis, que compreende aplicar a composição de revestimento de acordo com a invenção no substrato.
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