Vacumètre à ionisation
    2.
    发明公开
    Vacumètre à ionisation 失效
    Ionisierungs-VAKUUM-Messgerät。

    公开(公告)号:EP0524870A1

    公开(公告)日:1993-01-27

    申请号:EP92402095.1

    申请日:1992-07-21

    CPC classification number: G01L21/34 H01J2201/30403

    Abstract: Vacumètre à ionisation comportant, à la manière des jauges du type Bayart-Alpert, dans une enceinte (1) renfermant une atmosphère à très basse pression dont on veut mesurer le degré d'ultra-vide, une cathode (2) source d'électrons, une grille (3) de collection de ces électrons entourant elle-même un collecteur (4) des ions résultant du choc des électrons sur les molécules de gaz de l'atmosphère à très basse pression, caractérisé en ce que la source d'électrons est une cathode froide à micropointes.

    Abstract translation: 电离真空计包括以包含Bayard-Alpert型的量规的方式在包含要测量超真空度的极低压气氛的外壳(1)中,阴极(2)是 电子源,用于收集这些电子的栅格(3),其本身包围由电子对极低压大气中的气体分子的影响而产生的离子的集电极(4),其特征在于,源 电子是冷微点阴极。 ... ...

    Système permettant de maîtriser la forme d'un faisceau de particules chargées
    3.
    发明公开
    Système permettant de maîtriser la forme d'un faisceau de particules chargées 失效
    Einrichtung zum Steuern der Form eines geladenen Teilcherstrahles。

    公开(公告)号:EP0550335A1

    公开(公告)日:1993-07-07

    申请号:EP92403558.7

    申请日:1992-12-28

    CPC classification number: H01J3/022 H01J3/029

    Abstract: Système permettant de maîtriser la forme d'un faisceau de particules chargées.
    Le faisceau de particules est issu d'une source (58) de ces particules. Cette source est associée à une électrode collectrice qui collecte les particules. Le système comprend au moins une zone résistive (56) et au moins deux électrodes de commande (52, 54), cette zone résistive et ces électrodes de commande étant disposées sensiblement au même niveau que la source, ces électrodes de commande étant en outre placées de part et d'autre de la zone résistive et prévues pour polarier celle-ci, le profil de résistance électrique de la zone résistive étant choisi de façon à avoir la répartition de potentiel permettant d'obtenir la forme voulue du faisceau issu de la source lorsque les électrodes de commande sont convenablement polarisées.
    Application à la focalisation d'un faisceau de particules chargées.

    Abstract translation: 控制带电粒子束形式的系统。 粒子束从这些颗粒的源(58)发出。 该源与收集颗粒的收集电极相关联。 该系统包括至少一个电阻区(56)和至少两个控制电极(52,54),该电阻区和这些控制电极基本上被布置在与源相同的水平处,这些控制电极进一步放置在两侧 的电阻区并且旨在偏振电阻区,电阻区的电阻分布被选择为具有电位分布,使得当控制电极适当时可以获得从源发射的束的期望形式 偏振。 应用于带电粒子束的聚焦。

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