公开(公告)号：WO2017106114A3

公开(公告)日：2017-08-10

申请号：PCT/US2016066247

申请日：2016-12-13

Applicant: CORNING INC

Inventor： ARAUJO ROGER JEROME ,  BORRELLI NICHOLAS FRANCIS ,  LONNROTH NADJA TERESIA ,  MORSE DAVID LATHROP ,  SEWARD THOMAS PHILIP III

IPC: C03C14/00 ,  C03C3/11 ,  C03C4/06 ,  C03C4/08 ,  G02B5/22 ,  G02B5/23

CPC classification number: C03C3/11 ,  C03C4/065 ,  C03C4/085 ,  C03C14/006 ,  C03C2204/00 ,  G02B5/226 ,  G02B5/23

Abstract: A photochromic glass that includes a base glass and a photochromic agent is described. The base glass is a modified boroaluminosilicate glass and the photochromic agent is a nanocrystalline cuprous halide phase. The photochromic glass exhibits a sharp cutoff in the UV or short wavelength visible portion of the spectrum along with an absorption band at longer wavelengths in the visible. The nanocrystalline cuprous halide phase includes Cu2+, which provides states within the bandgap of the cuprous halide that permit the glass to absorb visible light. Absorption of visible light drives a photochromic transition without compromising the sharp cutoff. The nanocrystalline cuprous halide phase may optionally include Ag.

Abstract translation: 描述了包括基础玻璃和光致变色剂的光致变色玻璃。 基础玻璃是改性硼铝硅酸盐玻璃，光致变色剂是纳米晶体卤化亚铜相。 光致变色玻璃在光谱的UV或短波长可见部分中具有锐截止以及在可见光中在较长波长处具有吸收带。 纳米晶体卤化亚铜相包括Cu 2+，其提供允许玻璃吸收可见光的卤化亚铜的带隙内的状态。 可见光的吸收驱动光致变色过渡而不影响锐截止。 纳米晶体卤化亚铜相可以任选地包含Ag。

公开(公告)号：EP0960074A4

公开(公告)日：2002-09-04

申请号：EP97945187

申请日：1997-08-27

Applicant: CORNING INC

Inventor： ALLAN DOUGLAS C ,  POWELL WILLIAM R ,  BORRELLI NICHOLAS FRANCIS ,  SEWARD THOMAS PHILIP III ,  SMITH CHARLENE MARIE

IPC: G02B1/00 ,  C03B8/02 ,  C03B8/04 ,  C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C1/00 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 ,  C03C3/076 ,  C03C4/00

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B2207/32 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/50 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70216 ,  Y10S65/13

Abstract: The invention relates to fused silica having low compaction under high energy irradation, particularly adaptable for use in photolithography applications.