适应于低温烘烤的抗蚀墨

    公开(公告)号:CN108141962A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680059438.4

    申请日:2016-10-11

    Abstract: 本发明的课题在于,提供一种即使烘箱温度为低温也能够兼顾与成为电路的金属箔的密合性以及耐酸性蚀刻性的适应于低温烘烤的抗蚀墨。本发明能够克服下述弊端:如果降低烘烤温度,则基材的金属箔与印刷覆膜的密合性降低,或者在酸性蚀刻工序中耐酸性蚀刻性降低。一种适应于低温烘烤的抗蚀墨,其特征在于,其以聚酯树脂、氧化钛和有机硅化合物作为必须成分。

    适应于低温烘烤的抗蚀墨

    公开(公告)号:CN108141962B

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201680059438.4

    申请日:2016-10-11

    Abstract: 本发明的课题在于,提供一种即使烘箱温度为低温也能够兼顾与成为电路的金属箔的密合性以及耐酸性蚀刻性的适应于低温烘烤的抗蚀墨。本发明能够克服下述弊端:如果降低烘烤温度,则基材的金属箔与印刷覆膜的密合性降低,或者在酸性蚀刻工序中耐酸性蚀刻性降低。一种适应于低温烘烤的抗蚀墨,其特征在于,其以聚酯树脂、氧化钛和有机硅化合物作为必须成分。

    抗蚀墨及抗蚀印刷物的制造方法

    公开(公告)号:CN113527940A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110358861.7

    申请日:2021-04-01

    Abstract: 本发明的目的在于提供抗蚀墨及抗蚀印刷物的制造方法。所述抗蚀墨即使用于掩模的抗蚀覆膜为薄膜,也能够兼具与形成电路的金属箔的密合性和耐酸性蚀刻性。所述抗蚀墨含有聚酯树脂、氧化钛和硅烷偶联剂,上述聚酯树脂的数均分子量为3000~10000,并且上述聚酯树脂的羟值为15mgKOH/g以上和/或酸值为15mgKOH/g以上,上述氧化钛的含量为抗蚀墨总量的5~30质量%。

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