규소-말단화된 오르가노-금속 화합물 및 이의 제조방법

    公开(公告)号:KR20200133354A

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:KR20207029259

    申请日:2019-03-18

    Abstract: 본개시내용은화학식 (I)의화합물을포함하는규소-말단화된오르가노-금속조성물에관한것이다. 실시형태는화학식 (I)의화합물을포함하는규소-말단화된오르가노-금속조성물의제조방법에관한것으로서, 상기방법은 (A) 비닐-말단화된규소계화합물및 (B) 사슬셔틀링제를포함하는출발물질을조합하여, 규소-말단화된오르가노-금속조성물을포함하는생성물을얻는단계를포함한다. 추가의실시형태에서, 상기방법의출발물질은 (C) 용매를더 포함할수 있다. JPEGpct00027.jpg3575(I)

    패턴 처리 방법
    3.
    发明公开
    패턴 처리 방법 审中-公开
    图案治疗方法

    公开(公告)号:KR20180032547A

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:KR20180033295

    申请日:2018-03-22

    Abstract: 패턴처리방법은하기단계들을포함한다: (a) 기판의표면상에서패턴화된특징을포함하는반도체기판을제공하는단계; (b) 패턴처리조성물을패턴화된특징에도포하는단계로서, 상기패턴처리조성물은블록코폴리머및 용매를포함하고, 상기블록코폴리머는제1 블록및 a 제2 블록을포함하고, 상기제1 블록은에틸렌성으로불포화된중합성기 및수소수용체기를포함하는제1 모노머로부터형성된단위를포함하고, 상기수소수용체그룹은질소-함유기이고, 상기제2 블록은에틸렌성으로불포화된중합성기 및방향족기를포함하는제2 모노머로부터형성된단위를포함하고, 단, 상기제2 모노머는스티렌이아닌단계; 및 (c) 잔류패턴처리조성물을상기기판으로부터린스하고, 이로써패턴화된특징에결합된블록코폴리머의일부를남기는단계. 상기방법은고해상도패턴을제공하기위해반도체소자의제조에서특정한적용가능성을발견한다.

    Abstract translation: 图案处理方法包括:(a)提供在其表面上包含图案化特征的半导体衬底; (b)将图案处理组合物施加到所述图案化特征,其中所述图案处理组合物包含嵌段共聚物和溶剂,其中所述嵌段共聚物包含第一嵌段和第二嵌段,其中所述第一嵌段包含由第一 包含烯属不饱和可聚合基团和氢受体基团的单体,其中所述氢受体基团为含氮基团,并且所述第二嵌段包含由包含烯属不饱和可聚合基团和芳族基团的第二单体形成的单元,条件是 第二单体不是苯乙烯; 和(c)从基材清洗残留图案处理组合物,留下一部分嵌段共聚物与图案化特征结合。 该方法在制造用于提供高分辨率图案的半导体器件中找到特别的适用性。

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