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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2015038604A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014144245
申请日：2014-07-14
Applicant: ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. , Rohm & Haas Electronic Materials Llc , ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー , Dow Global Technologies Llc , ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
Inventor： OBER MATTHIAS S , VIPUL JAIN , JOHN B ETIENNE
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/039 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/09 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 【課題】化学増幅フォトレジストにおいて、入射放射線による露光および現像前ベークにおいてポリマー骨格の鎖切断を受けるポリマーを提供する【解決手段】下記の構造を有する複数の繰り返し単位を含むポリマー、ならびに光活性成分を含むフォトレジスト組成物。(式中、R1およびR2の各存在は独立して水素、非置換もしくは置換されたC1−18直鎖もしくは分枝アルキル、非置換もしくは置換されたC3−18シクロアルキル、非置換もしくは置換されたC6−18アリール、または非置換もしくは置換されたC3−18ヘテロアリールであり;R1およびR2は任意に互いに共有結合して、−R1−C−R2−を含む環を形成し;Ar1、Ar2、およびAr3の各存在は独立して非置換もしくは置換されたC6−18アリーレン、または非置換もしくは置換されたC3−18ヘテロアリーレンである)【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：为了在化学放大光致抗蚀剂中提供聚合物，聚合物将通过暴露于入射辐射和通过曝光后烘烤而在聚合物骨架中进行链切割。提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括： 包含多个具有下述结构的重复单元的聚合物; 和光活性组分。 在该式中，Rand Reach独立地表示氢，未取代或取代的具有1至18个碳原子的直链或支链烷基，未取代或取代的具有3至18个碳原子的环烷基，未取代或取代的具有6至18个碳原子的芳基，或未取代或未取代的 取代的具有3至18个碳原子的杂芳基，并且兰德尔尔任选地共价键合形成包括-RCR-的环; Ar，Ar和Area独立地表示未取代或取代的碳原子数为6〜18的亚芳基或未取代或取代的碳原子数为3〜18的亚杂芳基。
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公开(公告)号：JP2015021130A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014144250
申请日：2014-07-14
Inventor： OBER MATTHIAS S , ROMER DUANE R , JOHN B ETIENNE , PULIKKOTTIL J THOMAS
IPC: C08G61/12
CPC classification number: C08G65/40 , C08G61/12 , C08G65/38 , C08G65/485 , C08G2261/1422 , C08G2261/1424 , C08G2261/148 , C08G2261/312 , C08G2261/314 , C08G2261/3142 , C08G2261/344 , C08G2261/411 , C08G2650/12
Abstract: 【課題】解像度、線幅粗度、および感度の優れたフォトレジストの提供。【解決手段】下記構造式で表される繰り返し単位を含むポリマー。ポリマーはSuzuki重縮合によって調製され得る。ポリマー骨格におけるアセタール及び/又はケタール官能性により、酸において骨格が開裂可能になる。ポリマーはリソグラフィーフォトレジストを含む用途に有用である。【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供分辨率，线宽粗糙度和灵敏度优异的光致抗蚀剂。解决方案：聚合物包括由图中结构式表示的重复单元。 聚合物可以通过Suzuki缩聚制备。 聚合物骨架中的缩醛和/或缩酮官能团使得骨架在酸中可裂解。 该聚合物可用于包括平版光刻胶的应用。
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公开(公告)号：JP2015021006A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014144262
申请日：2014-07-14
Inventor： OBER MATTHIAS S , ROMER DUANE R , JOHN B ETIENNE , PULIKKOTTIL J THOMAS
CPC classification number: C07F5/025 , C07C43/307 , C07F5/027 , C07F5/04 , C07F5/05
Abstract: 【課題】ポリアセタールの合成において有用なビス(アリール)アセタール化合物の提供。【解決手段】下式で表されるビス(アリール)アセタール化合物。[Y1及びY2の各々独立にCl、Br、I、メシレート、トシレート、トリフレート、又はBx;但しY1及びY2は両者ともCl、Br及びIから選択されず;Bxの各々の出現は独立にBを介してAr1又はAr2へ結合されるホウ素含有官能基;Ar1及びAr2の各々独立に非置換若しくは置換されたC6−18アリーレン又は非置換若しくは置換されたC3−18ヘテロアリーレン;但しAr1及びAr2は、−Ar1−O−C−O−Ar2−を含む環構造を形成するようには互いには共有結合で連結されず;R1及びR2の各々独立にH、非置換若しくは置換されたC1−18の直鎖状又は分岐状のアルキル等]【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供可用于聚缩醛合成的双（芳基）缩醛化合物。溶液：双（芳基）缩醛由图中的式表示。 [Yand Yare各自独立地为Cl，Br，I，甲磺酸酯，甲苯磺酸酯，三氟甲磺酸酯或B，条件是Y和Yare都不能选自Cl，Br和I; 每次出现双独立的与Aror Arvia B键合的含硼官能团; Arand Arare各自独立地是未取代的或取代的亚芳基，或未取代或取代的季戊烯，条件是Arand Arare彼此不共价连接以形成包括-Ar-O-C-O-Ar-的环结构。 和Rare Rare各自独立地为H，未取代或取代的Clinear或支链烷基等。
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公开(公告)号：BR112021011782A2
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：BR112021011782
申请日：2019-12-20
Applicant: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
Inventor： BRAD C BAILEY , DAVID D DEVORE , KOENIGS DAVID , DAVID M PEARSON , SZUROMI ENDRE , JOHN B ETIENNE , NOLAN T MCDOUGAL , ROBERT D GRIGG , MUKHOPADHYAY SUKRIT
IPC: C08F210/16 , C08F4/659
Abstract: processo de polimerização. o processo de polimerização desta divulgação inclui a polimerização de etileno e uma ou mais olefinas na presença de um sistema de catalisador sob condições de polimerização de olefinas para formar um polímero à base de etileno. o sistema de catalisador compreende um complexo metal ligante de acordo com a fórmula (i).
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公开(公告)号：BR112021025960A2
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：BR112021025960
申请日：2020-06-23
Applicant: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
Inventor： ANDREW M CAMELIO , BRAD C BAILEY , JOHN B ETIENNE , JORDAN C REDDEL , MUKHOPADHYAY SUKRIT , TODD D SENECAL
IPC: C08F210/16 , C08F4/64
Abstract: sistema de catalisador, e, processo de polimerização. trata se de processos de polimerização de monômeros de olefina com o uso de sistemas de catalisador que compreendem um pró catalisador que tem uma estrutura de acordo com a fórmula (i):
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