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公开(公告)号：CN1128657C
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：CN99809282.7
申请日：1999-06-25
Applicant: E-CELL公司
Inventor： 戴维·弗洛里安·泰西耶 , 汤姆·科瑟 , 史蒂夫·西韦恩斯 , 马克·菲利普·许纳尔格德 , 罗伯特·格莱格
CPC classification number: B01D61/58 , B01D61/025 , B01D61/48 , B01D61/52 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/4602 , C02F1/4604 , C02F1/4695 , C02F5/00 , C02F2201/46115
Abstract: 一种水处理用的电去电离作用系统(10)或反渗透/电去电离作用组合系统(62，10)中的抑制水垢形成的方法及设备，更特别地，用于增加对进入电去电离作用装置(10)中的给水硬度的耐受性，以抑制给水所含的阳离子沉淀，并且增加电去电离作用装置的效率。须纯化的水通过电去电离作用装置(10)，其中循环通过浓缩室(18)及阳极室和阴极室(20，22)的浓缩流(12)中含有有效量的阻垢剂以抑制水垢沉淀。优选地，与电去电离作用装置(10)形成系列的一个或多个初级反渗透装置(62，72，74，90，100，110，120，130，140)接受浓缩流(12，44)中的一部分阻垢剂。给入反渗透装置(62)中的水中的阻垢剂可以补充和调整。可通过反渗透的产品向电去电离作用装置的浓缩流(44)提供电解质。
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公开(公告)号：CN1323279A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN99812219.X
申请日：1999-09-24
Applicant: E-CELL公司
Inventor： 戴维·弗洛里安·泰西耶 , 罗伯特·格莱格 , 约翰·H·巴伯
CPC classification number: C02F1/4602 , B01D61/48 , B01D61/52 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/4695 , C02F2201/4611 , C02F2201/46115
Abstract: 本发明提供一种在电去离子系统中抑制水垢形成的方法及设备,更特别地,通过抑制给料水中所含的水垢形成金属阳离子沉淀,来增加对给入电去离子作用装置给料水硬度耐受性,以提高电去离子系统的效率。水通过电去离子作用装置得到纯化,其中,在稀释室中液流与浓缩室中液流方向相反。这样阻止了水垢形成金属阳离子通过阳离子交换膜迁移进入浓缩室并且向浓缩室一侧阴离子交换膜迁移,从而防止在阴离子交换膜上形成水垢。所述电去离子作用装置可进一步改进,即以多孔隔膜或离子传导膜将浓缩室分隔成第一室和第二室。所述多孔隔膜或离子传导膜有效地避免了水垢形成金属阳离子从浓缩室的阳离子交换膜一侧向浓缩室的阴离子交换膜一侧的对流传输,因此阻止阴离子交换膜的水垢形成。
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公开(公告)号：CN1311709A
公开(公告)日：2001-09-05
申请号：CN99809282.7
申请日：1999-06-25
Applicant: E-CELL公司
Inventor： 戴维·弗洛里安·泰西耶 , 汤姆·科瑟 , 史蒂夫·西韦恩斯 , 马克·菲利普·许纳尔格德 , 罗伯特·格莱格
CPC classification number: B01D61/58 , B01D61/025 , B01D61/48 , B01D61/52 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/4602 , C02F1/4604 , C02F1/4695 , C02F5/00 , C02F2201/46115
Abstract: 一种水处理用的电去电离作用系统(10)或反渗透/电去电离作用组合系统(62,10)中的抑制水垢形成的方法及设备,更特别地,用于增加对进入电去电离作用装置(10)中的给水硬度的耐受性,以抑制给水所含的阳离子沉淀,并且增加电去电离作用装置的效率。须纯化的水通过电去电离作用装置(10),其中循环通过浓缩室(18)及阳极室和阴极室(20,22)的浓缩流(12)中含有有效量的阻垢剂以抑制水垢沉淀。优选地,与电去电离作用装置(10)形成系列的一个或多个初级反渗透装置(62,72,74,90,100,110,120,130,140)接受浓缩流(12,44)中的一部分阻垢剂。给入反渗透装置(62)中的水中的阻垢剂可以补充和调整。可通过反渗透的产品向电去电离作用装置的浓缩流(44)提供电解质。
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