公开(公告)号：US20140057533A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：US13974356

申请日：2013-08-23

Applicant: ECOLAB USA INC.

Inventor： Kim Marie Long ,  Michael Kamrath ,  Sean McCue

IPC: B24B37/04

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B24B37/24 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463

Abstract: Described herein are methods for polishing sapphire surfaces using compositions comprising colloidal silica, wherein the colloidal silica has a broad particle size distribution.

公开(公告)号：US09283648B2

公开(公告)日：2016-03-15

申请号：US13974356

申请日：2013-08-23

Applicant: ECOLAB USA INC.

Inventor： Kim Marie Long ,  Michael Kamrath ,  Sean McCue

IPC: B24B1/00 ,  B24B37/04 ,  B24B7/22 ,  C09G1/02

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B24B37/24 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463

Abstract: Described herein are methods for polishing sapphire surfaces using compositions comprising colloidal silica, wherein the colloidal silica has a broad particle size distribution.

Abstract translation: 这里描述的是使用包含胶体二氧化硅的组合物来抛光蓝宝石表面的方法，其中胶体二氧化硅具有宽的粒度分布。

公开(公告)号：US20140057532A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：US13974250

申请日：2013-08-23

Applicant: ECOLAB USA INC.

Inventor： Kim Marie Long ,  Michael Kamrath

IPC: B24B37/04

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B24B37/24 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463

Abstract: Described herein are methods for polishing sapphire surfaces using compositions comprising colloidal silica, wherein the colloidal silica has a broad particle size distribution.

Abstract translation: 这里描述的是使用包含胶体二氧化硅的组合物来抛光蓝宝石表面的方法，其中胶体二氧化硅具有宽的粒度分布。