-
公开(公告)号：CA2862139A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：CA2862139
申请日：2012-12-27
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement comprenant une couche A ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, caractérisé en ce que : - ladite couche A constitue : o soit la couche externe du revêtement interférentiel, o soit une couche intermédiaire, directement en contact avec la couche externe du revêtement interférentiel, cette couche externe du revêtement interférentiel étant une couche B ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, - et ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse contenant dans sa structure au moins un atome de silicium, au moins un atome de carbone, au moins un atome d'hydrogène et, optionnellement au moins un atome d'azote et/ou au moins un atome d'oxygène, le dépôt de la dite couche A s'effectuant en présence d'azote et/ou d'oxygène lorsque le composé A ne contient pas d'azote et/ou d'oxygène et - ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
-
2.发明专利
公开(公告)号：FR2985255B1
公开(公告)日：2015-08-07
申请号：FR1162492
申请日：2011-12-28
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
-
Patent Agency Ranking3.发明专利
公开(公告)号：FR2985255A1
公开(公告)日：2013-07-05
申请号：FR1162492
申请日：2011-12-28
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement comprenant une couche A ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, caractérisé en ce que : ladite couche A constitue : o soit la couche externe du revêtement interférentiel, o soit une couche intermédiaire, directement en contact avec la couche externe du revêtement interférentiel, cette couche externe du revêtement interférentiel étant une couche B ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, et ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse contenant dans sa structure au moins un atome de silicium, au moins un atome de carbone, au moins un atome d'hydrogène et, optionnellement au moins un atome d'azote et/ou au moins un atome d'oxygène, le dépôt de la dite couche A s'effectuant en présence d'azote et/ou d'oxygène lorsque le composé A ne contient pas d'azote et/ou d'oxygène et ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
-
公开(公告)号：FR3051000A1
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：FR1654138
申请日：2016-05-09
Inventor： TROTTIER-LAPOINTE WILLIAM , ZABEIDA OLEG , MARTINU LUDVIK , SCHMITT THOMAS , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche de nature organique-inorganique d'un matériau obtenu par dépôt sous vide d'au moins un oxyde métallique B ayant de préférence un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,53 et d'au moins un composé organique, ladite couche présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,45, et ledit oxyde métallique ayant été déposé par dépôt à angle oblique.
-
5.发明专利
公开(公告)号：CA2947115A1
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：CA2947115
申请日：2014-04-28
Inventor： ZABEIDA OLEG , SCHMITT THOMAS , SAPIEHA JOLANTA , MARTINU LUDVIK , SCHERER KARIN
IPC: G02B1/11
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A d'un matériau obtenu par dépôt sous vide et assisté par une source d'ions d'au moins un oxyde de titane et d'au moins un composé B organosilicié, ledit matériau présentant un indice de réfraction à 550 nm supérieur ou égal à 1,8, un coefficient d'extinction k à 550 nm inférieur ou égal à 0,02, un ratio H/E supérieur ou égal à 0,046, où H et E désignent respectivement la dureté du matériau et le module d'élasticité du matériau.
-
6.发明专利
公开(公告)号：CA2947115C
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CA2947115
申请日：2014-04-28
Applicant: CORP DE LECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL , ESSILOR INT
Inventor： ZABEIDA OLEG , SCHMITT THOMAS , SAPIEHA JOLANTA , MARTINU LUDVIK , SCHERER KARIN
IPC: G02B1/11
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A d'un matériau obtenu par dépôt sous vide et assisté par une source d'ions d'au moins un oxyde de titane et d'au moins un composé B organosilicié, ledit matériau présentant un indice de réfraction à 550 nm supérieur ou égal à 1,8, un coefficient d'extinction k à 550 nm inférieur ou égal à 0,02, un ratio H/E supérieur ou égal à 0,046, où H et E désignent respectivement la dureté du matériau et le module d'élasticité du matériau.
-
公开(公告)号：FR3051000B1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：FR1654138
申请日：2016-05-09
Applicant: CORP DE LECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL , ESSILOR INT
Inventor： TROTTIER-LAPOINTE WILLIAM , ZABEIDA OLEG , MARTINU LUDVIK , SCHMITT THOMAS , SCHERER KARIN
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.032 seconds)
