公开(公告)号：BR112012014924B1

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：BR112012014924

申请日：2009-12-17

Applicant: ESSILOR INT ,  ESSILOR INT COMPAGNIE GENERALE D OPTIQUE

Inventor： ROBERT VALERI

IPC: C08G59/38 ,  C09D163/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/23

Abstract: composição epóxi funcional termoendurecível e revestimento duros resistentes à corrosão termocurados preparados a partir da mesma um aparelho de formação de imagem tendo uma velocidade de sistema de 400 a 1.700 mm/s, incluindo um condutor de imagem latente; um revelador de imagem que revela a imagem latente com um revelador de dois componentes incluindo um toner e um portador , um transferidor, detector de concentração de toner ; um alimentador de toner ; e um controlador , em que o toner compreende um agente de liberação e uma resina aglutinante incluindo uma resina de poliéster cristalino e uma resina amorfa, em que uma relação (w/r) de altura (w) d epipco de elevação máxima da resina de poliéster cristalino para uma altura (r) de pico de elevação máximo de resina amorfa , que são espectros de absorção de infravermelho respectivos observados quando medidos por uma espectroscopia de ir usando um analisador de espectro de infravermelho de transformação fourier, é de 0,22 a 0,55.

公开(公告)号：BRPI0914888B1

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：BRPI0914888

申请日：2009-06-09

Applicant: ESSILOR INT ,  ESSILOR INT

Inventor： ROBERT VALERI

IPC: C08K5/06 ,  C09D4/06 ,  C09D133/08 ,  G02B1/04

公开(公告)号：BR112020002677A2

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：BR112020002677

申请日：2018-08-08

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： HAIPENG ZHENG ,  MATHIEU FEUILLADE ,  PIERRE FROMENTIN ,  ROBERT VALERI ,  RONALD A BERZON ,  THANISARARAT SALEESUNG ,  TIPPARAT LERTWATTANASERI

IPC: G02B1/14

Abstract: a invenção se relaciona com um artigo óptico tendo um substrato feito de um material óptico compreendendo uma matriz polimérica e uma resistência melhorada à abrasão e/ou a riscos. o substrato compreende uma camada externa na qual partículas funcionalizadas com um agente de acoplamento de silano estão embutidas na matriz polimérica, o valor bayer do referido substrato determinado de acordo com o padrão astm f735-81 sendo pelo menos 30% maior do que o valor bayer do mesmo substrato sem partículas embutidas.

公开(公告)号：BR112013017105A2

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：BR112013017105

申请日：2011-01-04

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： ROBERT VALERI

IPC: C09D4/00 ,  C09D5/24 ,  C09D183/06 ,  G02B1/10

Abstract: método para a preparação de revestimentos duros curáveis por uv antiestáticos sobre artigos óticos a presente invenção refere-se a um método para a fabricação de revestimentos duros curáveis po uv antiestáticos sobre artigos óticos, compreendendo (a) revestimento de um substrato ótico orgânico ou mineral com uma solução essencialmente anídra contendo de 20% a 90% em peso, com relação ao material seco total da solução, de pelo menos um epoxialquiltrialcoxissilano não hidrolisado e pelo menos 3,2% em peso, com relação ao material seco total da solução, de pelo menos um fotoiniciador selecionado do grupo que consiste em sais de triaril-sulfônico, sais de diariliodônio, e suas misturas, (b) cura do revestimento resultante por irradiação com radiação uv, o dito método não compreendendo qualquer etapa de hidrólise antes da cura por etapa de uv

公开(公告)号：BRPI0612101B1

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：BRPI0612101

申请日：2006-06-22

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： CLAUDINE BIVER ,  JEAN-MARC PADIOU ,  NOÉMIE LESARTRE ,  ROBERT VALERI

IPC: G02B1/10 ,  B29D11/00 ,  G02C7/02

Abstract: "processo de obtenção de um artigo transparente isento de raias de superfície visíveis,e,artigo" processo de obtenção de um artigo transparente isento de raias de tratamento de superfície visíveis, compreendendo: a obtenção de um substrato em um material transparente com índice de refração ms, sendo que pelo menos uma face principal foi usinada e polida com um valor de ra variando de 0,001 a 0,01 um, mas que apresenta defeitos de superfície visíveis em forma de finas arranhaduras individualizadas; sendo que o depósito, diretamente sobre a superfície principal usinada e polida do substrato com uma composição líquida, polimerizável, de revestimento de mascaramento apresentando um ângulo de contato com a face principal do substrato de, no máximo, 30º, e formando, por meio de polimerização, um revestimento de mascaramento apresentando um índice de refração nc tal que 0,01

公开(公告)号：AU2006260767B2

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：AU2006260767

申请日：2006-06-22

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： ROBERT VALERI ,  JEAN-MARC PADIOU ,  NOEMIE LESARTRE ,  CLAUDINE BIVER

IPC: G02B1/10 ,  B29D11/00 ,  G02C7/02

Abstract: A method for producing an article which is made of a transparent material and devoid of visible surface lines consists in producing a substrate which is made of a transparent material having a refractive index , whose at least main face is machined and polished in such a way that the Ra value thereof ranges from 0.001 to 0.1?m, but has visible surface defects in the form of thin individual scratches, in deposing, a liquid polymerisable composition of a masking coating, whose contact angle with said substrate main face is equal or less than 30° and which is formed by polymerising a masking coating having a refractive index such as 0.01

公开(公告)号：BR112022024305A2

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：BR112022024305

申请日：2021-06-03

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： ROBERT VALERI

IPC: G02B1/14 ,  G03F7/028

Abstract: COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO CURÁVEL. O presente invento se relaciona com uma composição de revestimento curável, especialmente uma composição de revestimento curável por radiação compreendendo pelo menos um composto de poli(met)acrilato compreendendo pelo menos 6 grupos (met)acrilato, pelo menos um composto de silano insaturado e pelo menos um fotoiniciador. O referido, pelo menos um, composto de poli(met)acrilato compreendendo pelo menos 6 grupos (met)acrilato e o referido, pelo menos um, composto de silano insaturado representam pelo menos 95% do peso de compostos polimerizáveis presentes na composição. Após cura por radiação, a composição proporciona um revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos.

公开(公告)号：BR112022009176A2

公开(公告)日：2022-07-26

申请号：BR112022009176

申请日：2020-05-11

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： ROBERT VALERI ,  HAIPENG ZHENG

IPC: C08G18/58 ,  C09D4/00

Abstract: COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTO CURÁVEL POR RADIAÇÃO PARA FILTRAGEM DE LUZ. As composições de revestimento curáveis por radiação divulgadas neste documento são fornecidas para uso como revestimentos fotoestáveis para um substrato de artigo óptico. As composições podem ser aplicadas por uma variedade de métodos, incluindo revestimento por rotação, revestimento por imersão e revestimento por jato de tinta. As composições de revestimento são de cura rápida e apresentam adesão robusta aos substratos.