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公开(公告)号：FR2929947A1
公开(公告)日：2009-10-16
申请号：FR0852452
申请日：2008-04-11
Applicant: ESSILOR INT , CENTRE NAT RECH SCIENT
Inventor： BALLET JEROME , BIVER CLAUDINE , CANO JEAN PAUL , DELIANE FLORENT , ETIENNE PASCAL , LLOSA MARJORIE
Abstract: La présente invention concerne une composition photoréticulable susceptible d'être obtenue par un procédé comprenant les étapes suivantes :(a) réaction d'hydrolyse et de condensation d'un [(époxycycloalkyl)alkyl]-trialcoxysilane en solution dans un milieu organoaqueux contenant de l'eau et au moins un solvant miscible avec l'eau, à un pH inférieur à 4, et à un couple température / durée suffisant pour obtenir une solution d'un prépolymère hybride organominéral comportant en moyenne au moins 4 groupes (époxycycloalkyl)alkyle, de préférence de 4 à 10 groupes (époxycycloalkyl)alkyle par molécule,(b) refroidissement de la composition de prépolymère polyépoxydé obtenue jusqu'à une température comprise entre 15 et 25 degres C,(c) addition à cette composition d'au moins un photoamorceur de polymérisation cationique et au moins un photosensibilisateur présentant un maximum d'absorption à une longueur d'onde comprise entre 300 et 420 nm, et optionnellement addition d'un tensioactif(d) agitation de la composition obtenue pendant une durée comprise entre 10 et 120 minutes, de préférence entre 20 et 40 minutes, à une température comprise entre 15 et 25 degres C,(e) filtration de la composition obtenue sur un filtre comportant des pores d'une taille moyenne comprise entre 1 et 5 µm, et(f) stockage du filtrat liquide obtenu à une température inférieure à 0 degres C, de préférence comprise entre -20 degres C et -10 degres C,ainsi que l'utilisation d'une telle composition photoréticulable en tant que résine photosensible négative dans un procédé de photolithographie.
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公开(公告)号：FR2929947B1
公开(公告)日：2011-03-04
申请号：FR0852452
申请日：2008-04-11
Applicant: ESSILOR INT , CENTRE NAT RECH SCIENT
Inventor： BALLET JEROME , BIVER CLAUDINE , CANO JEAN PAUL , DELIANE FLORENT , ETIENNE PASCAL , LLOSA MARJORIE
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公开(公告)号：CA2720663A1
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：CA2720663
申请日：2009-04-09
Applicant: ESSILOR INT , CENTRE NAT RECH SCIENT
Inventor： BALLET JEROME , BIVER CLAUDINE , CANO JEAN-PAUL , DELIANE FLORENT , ETIENNE PASCAL , LLOSA MARJORIE
IPC: C08G77/04 , C08G77/10 , C08G77/14 , C09D183/06 , G03F7/075
Abstract: La présente invention concerne une composition photoréticulable susceptible d'être obtenue par un procédé comprenant les étapes suivantes : (a) réaction d'hydrolyse et de condensation d'un [(époxycycloalkyl)alkyl]-thalcoxysilane en solution dans un milieu organoaqueux contenant de l'eau, dans un rapport molaire initial eau/monomère compris entre 3 et 15, et au moins un solvant miscible avec l'eau, à un pH compris entre 1,6 et 4,0, par chauffage de la solution à une température comprise entre 50 et 70 °C pendant une durée comprise entre 180 et 350 minutes, de manière à obtenir une solution d'un prépolymère hybride organominéral dont la totalité ou quasi-totalité des groupes alcoxysilane a été hydrolysée et qui comporte en moyenne au moins 4 groupes (époxycycloalkyl)alkyle; (b) refroidissement de la composition de prépolymère polyépoxydé obtenue jusqu'à une température comprise entre 15 et 25 °C; (c) addition à cette composition d'au moins un photoamorceur de polymérisation cationique et au moins un photosensibilisateur présentant un maximum d'absorption à une longueur d'onde comprise entre 300 et 420 nm, et optionnellement addition d'un tensioactif; (d) agitation de la composition obtenue pendant une durée comprise entre 10 et 120 minutes à une température comprise entre 15 et 25 °C; (e) filtration de la composition obtenue sur un filtre comportant des pores d'une taille moyenne comprise entre 1 et 5 µm; et (f) stockage du filtrat liquide obtenu à une température inférieure à 0 °C, de préférence comprise entre -20 °C et -10 °C, ainsi que l'utilisation d'une telle composition photoréticulable en tant que résine photosensible négative dans un procédé de photolithographie.
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公开(公告)号：CA2720663C
公开(公告)日：2016-08-30
申请号：CA2720663
申请日：2009-04-09
Inventor： BALLET JEROME , BIVER CLAUDINE , CANO JEAN-PAUL , DELIANE FLORENT , ETIENNE PASCAL , LLOSA MARJORIE
IPC: C08G77/04 , C08G77/10 , C08G77/14 , C09D183/06 , G03F7/075
Abstract: La présente invention concerne une composition photoréticulable susceptible d'être obtenue par un procédé comprenant les étapes suivantes : (a) réaction d'hydrolyse et de condensation d'un [(époxycycloalkyl)alkyl]-thalcoxysilane en solution dans un milieu organoaqueux contenant de l'eau, dans un rapport molaire initial eau/monomère compris entre 3 et 15, et au moins un solvant miscible avec l'eau, à un pH compris entre 1,6 et 4,0, par chauffage de la solution à une température comprise entre 50 et 70 °C pendant une durée comprise entre 180 et 350 minutes, de manière à obtenir une solution d'un prépolymère hybride organominéral dont la totalité ou quasi-totalité des groupes alcoxysilane a été hydrolysée et qui comporte en moyenne au moins 4 groupes (époxycycloalkyl)alkyle; (b) refroidissement de la composition de prépolymère polyépoxydé obtenue jusqu'à une température comprise entre 15 et 25 °C; (c) addition à cette composition d'au moins un photoamorceur de polymérisation cationique et au moins un photosensibilisateur présentant un maximum d'absorption à une longueur d'onde comprise entre 300 et 420 nm, et optionnellement addition d'un tensioactif; (d) agitation de la composition obtenue pendant une durée comprise entre 10 et 120 minutes à une température comprise entre 15 et 25 °C; (e) filtration de la composition obtenue sur un filtre comportant des pores d'une taille moyenne comprise entre 1 et 5 µm; et (f) stockage du filtrat liquide obtenu à une température inférieure à 0 °C, de préférence comprise entre -20 °C et -10 °C, ainsi que l'utilisation d'une telle composition photoréticulable en tant que résine photosensible négative dans un procédé de photolithographie.
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