公开(公告)号：CA2828030C

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CA2828030

申请日：2012-02-10

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  PAULAT FLORIAN ,  TITZ GUIDO ,  MULLER SVEN ,  ERLHOFER PETER ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG ,  BARTHEL THOMAS ,  SIRAY MUSTAFA ,  BEHNISCH JURGEN

IPC: C01B33/193

Abstract: The present invention relates to a method of purifying strong acids or strongly acidic media to remove di- and higher valent metal ions, which can be used within the context of the production of high-purity silica. The invention further relates to the use of special ion exchangers for carrying out the method according to the invention and the resultant high-purity silicas.

公开(公告)号：ES2378120T3

公开(公告)日：2012-04-09

申请号：ES08854777

申请日：2008-10-24

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  MEIER KARL ,  TOTH JAMES J ,  ROMAINE MATTHEW ,  SCHOLZ MARIO ,  TITZ GUIDO

IPC: C01B33/12 ,  C01B33/143 ,  C01B33/18 ,  C01B33/187 ,  C01B33/193

Abstract: Ícido silícico de precipitación con las siguientes propiedades: -un valor d50 de 150 a 2000 nm;-un valor d90 de 500 a 7000 nm;-una densidad de grupos silanol de 2, 5 a 8 OH/nm2; y -una densidad en estado apisonado modificada menor que 70 g/l.

公开(公告)号：CA2738559A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：CA2738559

申请日：2009-09-28

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  RUF MARKUS ,  TITZ GUIDO ,  PAULAT FLORIAN ,  RAULEDER HARTWIG ,  MULLER SVEN ,  BEHNISCH JURGEN ,  PELTZER JENS

IPC: C01B33/193

Abstract: The invention relates to a novel method for producing high-purity SiO2 from silicate solutions, a novel high-purity SiO2 having a specific impurity spectrum and use thereof.

公开(公告)号：CA2827899C

公开(公告)日：2018-06-12

申请号：CA2827899

申请日：2012-02-10

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  TITZ GUIDO ,  MULLER SVEN ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG ,  BEHNISCH JURGEN

IPC: C03B19/10 ,  C01B33/193

Abstract: It has been found that conventional cheap waterglass qualities in a strongly acidic medium react to give high-purity silica grades, the treatment of which with a base leads to products which can be processed further to give glass bodies with low silanol group contents.

公开(公告)号：BRPI0920744A2

公开(公告)日：2015-12-22

申请号：BRPI0920744

申请日：2009-09-28

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  PAULAT FLORIAN ,  TITZ GUIDO ,  RAULEDER HARTWIG ,  PELTZER JENS ,  BEHNISCH JÜRGEN ,  RUF MARKUS ,  MÜLLER SVEN

IPC: C01B33/193

公开(公告)号：PT2219996E

公开(公告)日：2012-03-05

申请号：PT08854777

申请日：2008-10-24

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： SCHOLZ MARIO ,  TOTH JAMES J ,  PANZ CHRISTIAN ,  MEIER KARL ,  ROMAINE MATTHEW ,  TITZ GUIDO

IPC: C01B33/12 ,  C01B33/143 ,  C01B33/18 ,  C01B33/187 ,  C01B33/193

公开(公告)号：PL2678280T3

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：PL12704510

申请日：2012-02-10

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  TITZ GUIDO ,  MÜLLER SVEN ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG ,  BEHNISCH JÜRGEN

IPC: C03B19/10 ,  C01B33/193

公开(公告)号：ES2628382T3

公开(公告)日：2017-08-02

申请号：ES12704510

申请日：2012-02-10

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  TITZ GUIDO ,  MÜLLER SVEN ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG ,  BEHNISCH JÜRGEN

IPC: C03B19/10 ,  C01B33/193

Abstract: Procedimiento para la obtención de granulado de dióxido de silicio altamente puro en el que se añade a un depósito que contiene un agente de acidificación, con un valor de pH de menos de 2,0, una disolución de silicato cuya viscosidad asciende a 0,1 hasta 10000 dPa.s (Poise), con la condición de que el valor de pH se sitúe siempre por debajo de 2,0 durante la adición, en el que el dióxido de silicio obtenido se trata a continuación al menos una vez con un medio de lavado ácido, cuyo valor de pH asciende a menos de 2,0, antes de ser expuesto a un tratamiento básico en estado lavado en medio neutro, y finalmente se efectúa la separación de una fracción de tamaños de grano en el intervalo de 200-1000 μm, y su sinterizado a al menos 600ºC.

公开(公告)号：DE102011004533A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：DE102011004533

申请日：2011-02-22

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN DR ,  PAULAT FLORIAN DR ,  TITZ GUIDO ,  MUELLER SVEN ,  ERLHOEFER PETER ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG DR ,  BARTHEL THOMAS ,  SIRAY MUSTAFA DR ,  BEHNISCH JUERGEN DR

IPC: C01B33/193 ,  B01J39/16 ,  C01B33/12

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung starker Säuren bzw. stark saurer Medien von zwei- und höherwertigen Metallionen, das im Rahmen der Herstellung von hochreinem Siliziumdioxid eingesetzt werden kann. Ferner betrifft die Erfindung die Verwendung spezieller Ionenaustauscher für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und die dabei erhaltenen hochreinen Siliziumdioxide.

公开(公告)号：CA2827899A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：CA2827899

申请日：2012-02-10

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： PANZ CHRISTIAN ,  TITZ GUIDO ,  MULLER SVEN ,  RUF MARKUS ,  FRINGS BODO ,  RAULEDER HARTWIG ,  BEHNISCH JURGEN

IPC: C03B19/10 ,  C01B33/193

Abstract: It has been found that conventional cheap waterglass grades react in a strongly acidic medium to form high-purity silica types whose treatment with a base leads to products which can be further processed into glassware having low silanol group contents.