公开(公告)号：CN101195081A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200610142890.5

申请日：1999-09-24

Applicant: GEBETZ加拿大公司

Inventor： 戴维·弗洛里安·泰西耶 ,  罗伯特·格莱格 ,  约翰·H·巴伯

IPC: B01D61/48 ,  B01D61/52 ,  B01D65/08 ,  C02F1/469

CPC classification number: C02F1/4602 ,  B01D61/48 ,  B01D61/52 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/4695 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115

Abstract: 本发明提供一种在电去离子系统中抑制水垢形成的方法及设备，更特别地，通过抑制给料水中所含的水垢形成金属阳离子沉淀，来增加对给入电去离子作用装置给料水硬度耐受性，以提高电去离子系统的效率。水通过电去离子作用装置得到纯化，其中，在稀释室中液流与浓缩室中液流方向相反。这样阻止了水垢形成金属阳离子通过阳离子交换膜迁移进入浓缩室并且向浓缩室一侧阴离子交换膜迁移，从而防止在阴离子交换膜上形成水垢。所述电去离子作用装置可进一步改进，即以多孔隔膜或离子传导膜将浓缩室分隔成第一室和第二室。所述多孔隔膜或离子传导膜有效地避免了水垢形成金属阳离子从浓缩室的阳离子交换膜一侧向浓缩室的阴离子交换膜一侧的对流传输，因此阻止阴离子交换膜的水垢形成。

公开(公告)号：CN101195081B

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200610142890.5

申请日：1999-09-24

Applicant: GEBETZ加拿大公司

Inventor： 戴维·弗洛里安·泰西耶 ,  罗伯特·格莱格 ,  约翰·H·巴伯

IPC: B01D61/48 ,  B01D61/52 ,  B01D65/08 ,  C02F1/469

CPC classification number: C02F1/4602 ,  B01D61/48 ,  B01D61/52 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/4695 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115

Abstract: 本发明提供一种在电去离子系统中抑制水垢形成的方法及设备，更特别地，通过抑制给料水中所含的水垢形成金属阳离子沉淀，来增加对给入电去离子作用装置给料水硬度耐受性，以提高电去离子系统的效率。水通过电去离子作用装置得到纯化，其中，在稀释室中液流与浓缩室中液流方向相反。这样阻止了水垢形成金属阳离子通过阳离子交换膜迁移进入浓缩室并且向浓缩室一侧阴离子交换膜迁移，从而防止在阴离子交换膜上形成水垢。所述电去离子作用装置可进一步改进，即以多孔隔膜或离子传导膜将浓缩室分隔成第一室和第二室。所述多孔隔膜或离子传导膜有效地避免了水垢形成金属阳离子从浓缩室的阳离子交换膜一侧向浓缩室的阴离子交换膜一侧的对流传输，因此阻止阴离子交换膜的水垢形成。