Pellikel-Austausch im EUV-Maskenfluss

    公开(公告)号:DE102018213190A1

    公开(公告)日:2019-05-09

    申请号:DE102018213190

    申请日:2018-08-07

    Abstract: Eine optische Maske weist ein daran angebrachtes erstes Pellikel auf. Die optische Maske wird mit dem angeordneten ersten Pellikel unter Verwendung von elektromagnetischer Strahlung mit ersten Wellenlängen inspiziert. Das erste Pellikel wird durch ein zweites Pellikel ersetzt. Das erste Pellikel erlaubt, dass lediglich die elektromagnetische Strahlung mit den ersten Wellenlängen hindurchtritt. Das zweite Pellikel erlaubt, dass zweite Wellenlängen, die kürzer sind als die ersten Wellenlängen, hindurchtreten. Unter Verwendung der optischen Maske wird ein Fotolack bei angeordnetem zweiten Pellikel belichtet. Das zweite Pellikel wird durch das erste Pellikel ersetzt. Die optische Maske wird wiederum mit dem angeordneten ersten Pellikel unter Verwendung der elektromagnetischen Strahlung mit den ersten Wellenlängen inspiziert.

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