公开(公告)号：DE112010003326B4

公开(公告)日：2018-11-22

申请号：DE112010003326

申请日：2010-08-06

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： HUANG WU-SONG S ,  LIU SEN ,  LI WAI-KIN ,  GOLDFARB DARIO L ,  VYKLICKY LIBOR ,  GLODDE MARTIN ,  VARANASI PUSHKARA R

IPC: G03F7/004 ,  C08J5/18 ,  C08K5/17 ,  C08L63/00 ,  C09B67/10 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02

Abstract: Mikroelektronische Struktur, umfassend:(a) ein mikroelektronisches Substrat;(b) eine feste, Nahinfrarot-absorbierende Dünnschicht über dem mikroelektronischen Substrat, wobei die Nahinfrarot-absorbierende Dünnschicht einen oder mehrere Nahinfrarot-absorbierende Farbstoffe auf Triphenylaminbasis umfasst; und(c) eine Fotolack-Dünnschicht über der Nahinfrarot-absorbierenden Dünnschicht.

公开(公告)号：DE112010003331B4

公开(公告)日：2017-10-26

申请号：DE112010003331

申请日：2010-08-06

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： GOLDFARB DARIO L ,  GLODDE MARTIN ,  HUANG WU-SONG S ,  VYKLICKY LIBOR ,  LIU SEN ,  LI WAI-KIN

IPC: C09D5/32 ,  C09B23/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02

Abstract: Verwendung einer härtbaren flüssigen Formulierung, welche das Folgende umfasst: (i) einen oder mehrere Nahinfrarot absorbierende Polymethinfarbstoffe; (ii) ein oder mehrere vernetzbare Polymere; und (iii) ein oder mehrere Gießlösungsmittel zur Herstellung einer nahinfrarot absorbierenden Dünnschicht auf einem mikroelektronischen Substrat und anschließender Bedeckung mit einer Photoresistschicht zur Strukturierung dieser Photoresistschicht.