公开(公告)号：DE102014206258A1

公开(公告)日：2015-02-12

申请号：DE102014206258

申请日：2014-04-02

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： HAMOUDA AYMAN

IPC: G06F17/50 ,  H01L21/027 ,  H01L21/308 ,  H01L21/31

Abstract: Es wird ein Verfahren zum SRAF-Drucken unter Verwendung eines ätzberücksichtigenden SRAF-Druckvermeidungs-Engines und die sich ergebende Vorrichtung bereitgestellt. Ausführungsformen umfassen ein Durchführen von Maske-zu-Lack-Simulationen für eine Maske mit einer Mehrzahl von Merkmalen, die auf einem Substrat zu bilden sind, und einer Mehrzahl von Subauflösungshilfsmerkmalen (SRAFs); ein Erfassen von SRAFs der Mehrzahl, die auf einen Lack durchgedruckt werden; Überprüfen der Dimensionen der erfassten SRAFs, um zu bestimmen, ob ein oder mehrere der SRAFs auf das Substrat durch geätzt werden; Modifizieren des einen oder der mehreren der SRAFs; und Bilden der Maske, nachdem das eine oder die mehreren der SRAFs modifiziert wurden.

公开(公告)号：SG2014013189A

公开(公告)日：2015-03-30

申请号：SG2014013189

申请日：2014-02-13

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： HAMOUDA AYMAN

Abstract: A method of SRAF printing using etch-aware SRAF print avoidance engines and the resulting device are provided. Embodiments include performing mask to resist simulations for a mask having both a plurality of features to be formed on a substrate and a plurality of sub resolution assist features (SRAFs); detecting SRAFs of the plurality that will print through to a resist; checking dimensions of the detected SRAFs to determine whether one or more of the SRAFs will etch through to the substrate; modifying the one or more of the SRAFs; and forming the mask after the one or more of the SRAFs have been modified.