公开(公告)号：DE102018206474B3

公开(公告)日：2019-06-13

申请号：DE102018206474

申请日：2018-04-26

Applicant: GLOBALFOUNDRIES INC

Inventor： FINLAY ROBERT ,  HOSLER ERIK ROBERT ,  MEYERS SHELDON ,  KENNY SCOTT

IPC: B05C11/02 ,  G03F7/16

Abstract: Eine EUV-Fotolackzusammensetzung umfasst paramagnetische Teilchen, die zum Blockieren von EUV-Strahlung ausgebildet sind. Die magnetische Manipulation der paramagnetischen Teilchen innerhalb einer abgeschiedenen Schicht eines EUV-Fotolacks kann die Fokussteuerung vorteilhaft beeinflussen und eine Linienbreitenrauheit während der nachfolgenden fotolithografischen Bearbeitung erreichen. Eine Rotationsbeschichtungsvorrichtung zum Ausgeben der EUV-Fotolackzusammensetzung auf ein Substrat umfasst eine Mehrzahl von konzentrischen Elektromagneten, die unterhalb des Substrats angeordnet sind, die die Verteilung der paramagnetischen Teilchen in der Fotolackschicht beeinflussen.