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公开(公告)号：CN101075086B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200710103488.0
申请日：2007-05-18
Applicant: HOYA株式会社 , 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光掩模以及一种使用此光掩模的曝光方法，所述光掩模可以防止在使用光掩模的过程中杂质的产生。所述光掩模包括：透明衬底(2)；转移图样(4)，所述转移图样形成在透明衬底(2)的中心部分的主要区域(3)内；遮光带区域(5)，所述遮光带区域邻近主要区域(3)地设置在主要区域(3)的外周边区域内；和护膜(6)，所述护膜通过利用粘合剂(8a)将护膜薄膜(6a)粘附到护膜框架(6b)上，其中此护膜(6)粘附到遮光区域(7)上，所述遮光区域(7)由遮光膜组成，所述遮光膜通过粘合剂(8b)形成在主要区域(3)的外周边区域内。
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公开(公告)号：CN109290230A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201810802258.1
申请日：2018-07-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宅岛克宏
Abstract: 基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法，使基板的背面朝上用擦洗部件等进行清洗的情况下，清洗液回绕使异物回绕到膜面侧，在膜面的清洗中无法去除干净的异物数量增加。一种基板处理装置，利用处理液对基板的朝下的面进行处理，具有：支承部件，使基板的主为水平的状态下，从朝下的面侧支承基板；夹持部件，从相对的2个方向夹持被支承部件支承的基板的外缘部的一部分，保持基板；驱动单元，为使被夹持部件保持的基板从支承部件分离，使支承部件和夹持部件的至少一方在铅直方向移动；擦洗移动单元，在通过分离形成的空间内使擦洗部件与基板的朝下的面接触同时，使擦洗部件沿着基板的朝下的面移动；处理液供给单元，向基板的朝下的面供给处理液。
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公开(公告)号：CN109290230B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201810802258.1
申请日：2018-07-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宅岛克宏
Abstract: 基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法，使基板的背面朝上用擦洗部件等进行清洗的情况下，清洗液回绕使异物回绕到膜面侧，在膜面的清洗中无法去除干净的异物数量增加。一种基板处理装置，利用处理液对基板的朝下的面进行处理，具有：支承部件，使基板的主为水平的状态下，从朝下的面侧支承基板；夹持部件，从相对的2个方向夹持被支承部件支承的基板的外缘部的一部分，保持基板；驱动单元，为使被夹持部件保持的基板从支承部件分离，使支承部件和夹持部件的至少一方在铅直方向移动；擦洗移动单元，在通过分离形成的空间内使擦洗部件与基板的朝下的面接触同时，使擦洗部件沿着基板的朝下的面移动；处理液供给单元，向基板的朝下的面供给处理液。
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公开(公告)号：CN101075086A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200710103488.0
申请日：2007-05-18
Applicant: HOYA株式会社 , 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光掩模以及一种使用此光掩模的曝光方法，所述光掩模可以防止在使用光掩模的过程中杂质的产生。所述光掩模包括：透明衬底(2)；转移图样(4)，所述转移图样形成在透明衬底(2)的中心部分的主要区域(3)内；遮光带区域(5)，所述遮光带区域邻近主要区域(3)地设置在主要区域(3)的外周边区域内；和护膜(6)，所述护膜通过利用粘合剂(8a)将护膜薄膜(6a)粘附到护膜框架(6b)上，其中此护膜(6)粘附到遮光区域(7)上，所述遮光区域(7)由遮光膜组成，所述遮光膜通过粘合剂(8b)形成在主要区域(3)的外周边区域内。
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