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公开(公告)号：CN111624849B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202010114945.1
申请日：2020-02-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有：在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21)；和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间，使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言，对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5～60％，并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。
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公开(公告)号：CN106597807B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201610076681.9
申请日：2016-02-03
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/76
Abstract: 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法，实现具备CD精度更高的转印用图案的光掩模。具有以下工序：准备在透明基板上形成了遮光膜的光掩模坯体；对遮光膜进行构图来形成遮光部；在进行了构图后的遮光膜上形成半透光膜；以及通过对半透光膜进行构图，来形成在透明基板上由半透光膜形成的第1半透光部、在透明基板上由膜厚比第1半透光部中的半透光膜小的半透光膜形成的第2半透光部、和露出透明基板的透光部，半透光膜由通过与遮光膜相同的蚀刻剂进行蚀刻的材料形成。在对半透光膜进行构图的工序中，实质上仅蚀刻半透光膜。
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公开(公告)号：CN113219782A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110480246.3
申请日：2016-09-26
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/20 , G03F1/36 , G03F1/62 , G03F1/68 , G03F1/76 , G03F1/80 , G03F7/00 , G03F7/09 , G03F7/20
Abstract: 本发明的课题在于提供兼具更微细、更高的CD精度和透射率精度的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。本发明的解决手段为一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具备包含透光部、第1透射控制部和第2透射控制部的转印用图案。该制造方法该制造方法包括：准备在透明基板上形成有具有规定的曝光光透射率的第1薄膜的光掩模坯的工序；对第1薄膜进行蚀刻，由此形成第1薄膜图案的第1图案化工序；在形成有第1薄膜图案的透明基板上形成第2薄膜，对第2薄膜进行蚀刻，由此形成第2薄膜图案的第2图案化工序。在上述第2图案化工序中，仅对上述第2薄膜进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN106597807A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201610076681.9
申请日：2016-02-03
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/76
Abstract: 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法，实现具备CD精度更高的转印用图案的光掩模。具有以下工序：准备在透明基板上形成了遮光膜的光掩模坯体；对遮光膜进行构图来形成遮光部；在进行了构图后的遮光膜上形成半透光膜；以及通过对半透光膜进行构图，来形成在透明基板上由半透光膜形成的第1半透光部、在透明基板上由膜厚比第1半透光部中的半透光膜小的半透光膜形成的第2半透光部、和露出透明基板的透光部，半透光膜由通过与遮光膜相同的蚀刻剂进行蚀刻的材料形成。在对半透光膜进行构图的工序中，实质上仅蚀刻半透光膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106814534B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201610851465.7
申请日：2016-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供兼具更微细、更高的CD精度和透射率精度的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。本发明的解决手段为一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具备包含透光部、第1透射控制部和第2透射控制部的转印用图案。该制造方法该制造方法包括：准备在透明基板上形成有具有规定的曝光光透射率的第1薄膜的光掩模坯的工序；对第1薄膜进行蚀刻，由此形成第1薄膜图案的第1图案化工序；在形成有第1薄膜图案的透明基板上形成第2薄膜，对第2薄膜进行蚀刻，由此形成第2薄膜图案的第2图案化工序。在上述第2图案化工序中，仅对上述第2薄膜进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN111624849A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010114945.1
申请日：2020-02-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有：在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21)；和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间，使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言，对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5～60％，并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。
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公开(公告)号：CN107861334A
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201710859230.7
申请日：2017-09-21
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/62
CPC classification number: G03F1/142
Abstract: 本发明的课题在于实现一种直接利用了各个膜的光学特性的、按照设计那样的显示装置制造用光掩模。提供光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法。一种显示装置制造用光掩模的制造方法，该显示装置制造用光掩模具备包含透光部、第1透过控制部和第2透过控制部的转印用图案，该方法包括下述工序：准备形成有第1光学膜和第1抗蚀剂膜的光掩模坯后，对第1抗蚀剂膜进行第1绘图，形成第1抗蚀剂图案；使用第1抗蚀剂图案仅对第1光学膜蚀刻，形成第1光学膜图案；在透明基板上形成第2光学膜后，在第2光学膜上形成第2抗蚀剂膜并进行第2绘图，形成第2抗蚀剂图案；和使用第2抗蚀剂图案仅对第2光学膜蚀刻，形成第2光学膜图案；第2抗蚀剂图案具有下述尺寸：在覆盖第2透过控制部的形成区域的同时，在第2透过控制部的边缘在相邻的第1透过控制部侧加上了特定宽度的裕量。
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公开(公告)号：CN107844026A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201710112538.5
申请日：2017-02-28
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 提供光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，一种光掩模的制造方法，其具备包含透光部、第1透过控制部和第2透过控制部的转印用图案，该方法包括下述工序：准备形成有第1光学膜和第1抗蚀剂膜的光掩模坯后，对第1抗蚀剂膜进行第1绘图，形成第1抗蚀剂图案；使用第1抗蚀剂图案仅对第1光学膜蚀刻，形成第1光学膜图案；在透明基板上形成第2光学膜后，在第2光学膜上形成第2抗蚀剂膜并进行第2绘图，形成第2抗蚀剂图案；和使用第2抗蚀剂图案仅对第2光学膜蚀刻，形成第2光学膜图案；第2抗蚀剂图案具有下述尺寸：在覆盖第2透过控制部的形成区域的同时，在第2透过控制部的边缘在相邻的第1透过控制部侧加上了特定宽度的裕量。
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公开(公告)号：CN106814534A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201610851465.7
申请日：2016-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供兼具更微细、更高的CD精度和透射率精度的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。本发明的解决手段为一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具备包含透光部、第1透射控制部和第2透射控制部的转印用图案。该制造方法该制造方法包括：准备在透明基板上形成有具有规定的曝光光透射率的第1薄膜的光掩模坯的工序；对第1薄膜进行蚀刻，由此形成第1薄膜图案的第1图案化工序；在形成有第1薄膜图案的透明基板上形成第2薄膜，对第2薄膜进行蚀刻，由此形成第2薄膜图案的第2图案化工序。在上述第2图案化工序中，仅对上述第2薄膜进行蚀刻。
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