公开(公告)号：CN1270195C

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN03127460.9

申请日：2003-08-07

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浅川勉 ,  松本研二 ,  原田高志 ,  中山恭司

IPC: G02B1/11 ,  C23C14/08 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B1/115 ,  G02B1/116

Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片，其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜由多层膜制成，所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器，通过相继层积这些层而形成。

公开(公告)号：CN1484045A

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：CN03127460.9

申请日：2003-08-07

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浅川勉 ,  松本研二 ,  原田高志 ,  中山恭司

IPC: G02B1/11 ,  C23C14/08 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B1/115 ,  G02B1/116

Abstract: 本发明涉及制造抗反射涂层基片，其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜由多层膜制成，所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器，通过相继层积这些层而形成。