图形不匀缺陷检查方法和装置

    公开(公告)号:CN100565195C

    公开(公告)日:2009-12-02

    申请号:CN200510063771.6

    申请日:2005-03-31

    CPC classification number: G03F1/84 G01N21/956

    Abstract: 本发明提供一种通过使不匀缺陷清晰显现来高精度地检测不匀缺陷的图形不匀缺陷检查方法和装置。不匀缺陷检查装置(10)具有:照明装置(12),朝在表面具有由单位图形规则排列而成的重复图形的芯片(55)的光掩模(50)照射光;以及受光器(13),接受在上述光掩模的芯片中的重复图形的单位图形的边缘部发生的散射光并转换成受光数据;分析该受光数据,检测在重复图形发生的不匀缺陷;上述照明装置把从照明用光源发出的具有接近于平行光的方向性的光,例如平行度为2°以内的光,朝光掩模(50)的芯片(55)中的重复图形(51)照射。

    缺陷检查装置和缺陷检查方法

    公开(公告)号:CN1940540A

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200610154371.0

    申请日:2006-09-26

    Abstract: 一种用于检查具有重复图案的被检查目标的不规则缺陷检查装置,以检测在重复图案中出现的不规则缺陷,所述重复图案包括在其表面上规则设置的单元图案。该装置包括光源装置,所述光源装置具有光源,所述光源用于将光以期望的入射角施加至包括被检查目标的检查区域在内的区域;以及观察装置,所述观察装置具有光接收光学系统,所述光接收光学系统用于在所述光源装置施加光时,接收从与其垂直的被检查目标的检查表面产生的光。该光源装置光源,该光源设有具有2度或更小的平行度、以及300000Lx或更高的亮度。

    图形不匀缺陷检查方法和装置

    公开(公告)号:CN1677097A

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN200510063771.6

    申请日:2005-03-31

    CPC classification number: G03F1/84 G01N21/956

    Abstract: 本发明提供一种通过使不匀缺陷清晰显现来高精度地检测不匀缺陷的图形不匀缺陷检查方法和装置。不匀缺陷检查装置(10)具有:照明装置(12),朝在表面具有由单位图形规则排列而成的重复图形的芯片(55)的光掩模(50)照射光;以及受光器(13),接受在上述光掩模的芯片中的重复图形的单位图形的边缘部发生的散射光并转换成受光数据;分析该受光数据,检测在重复图形发生的不匀缺陷;上述照明装置把从照明用光源发出的具有接近于平行光的方向性的光,例如平行度为2°以内的光,朝光掩模(50)的芯片(55)中的重复图形(51)照射。

    图案缺陷检查方法及图案缺陷检查装置

    公开(公告)号:CN101339360B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200810002122.9

    申请日:2008-01-15

    Abstract: 本发明提供一种图案缺陷检查方法,对具备单位图案周期性排列而成的重复图案的被检查体的、产生于所述重复图案中的缺陷进行检查,其中,具有:对所述重复图案以规定的入射角照射光而产生衍射光的工序;对来自所述重复图案的衍射光进行受光而成像的工序;通过对使所述衍射光成像后的图像进行观察,而检测产生于所述重复图案上的缺陷的工序。在对所述衍射光进行受光而成像的工序中,对来自所述重复图案的衍射光中绝对值为45级~1600级的超高级衍射光进行受光。

    图案缺陷检查方法及图案缺陷检查装置

    公开(公告)号:CN101339360A

    公开(公告)日:2009-01-07

    申请号:CN200810002122.9

    申请日:2008-01-15

    Abstract: 本发明提供一种图案缺陷检查方法,对具备单位图案周期性排列而成的重复图案的被检查体的、产生于所述重复图案中的缺陷进行检查,其中,具有:对所述重复图案以规定的入射角照射光而产生衍射光的工序;对来自所述重复图案的衍射光进行受光而成像的工序;通过对使所述衍射光成像后的图像进行观察,而检测产生于所述重复图案上的缺陷的工序。在对所述衍射光进行受光而成像的工序中,对来自所述重复图案的衍射光中绝对值为45级~1600级的超高级衍射光进行受光。

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