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公开(公告)号：CN104685578A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380051014.X
申请日：2013-11-08
Applicant: HRL实验室有限责任公司
IPC: H01B5/14
CPC classification number: H01L51/0045 , H01G13/00 , H01L51/0002 , H01Q1/1271 , H01Q1/28 , H01Q1/32 , H01Q1/38 , H01Q9/0407 , H01Q13/10 , H05K1/0274 , H05K1/09 , H05K1/097 , H05K1/181 , H05K3/06 , H05K3/067 , H05K3/4644 , H05K2201/026
Abstract: 描述了一种装置、系统和/或方法，其用于提供光学透明可重构的集成电子组件，如用于与光学透明寄主平台(如玻璃)关联的天线或RF电路。在一个实施例中，可将Ag NW薄膜配置为天线的透明导体和/或无源电路组件(如电容器或电阻器)的互连部件。Ag NW也可用于器件的传输线和/或互连叠层。也可将石墨烯薄膜配置为用于制造有源RF器件(如放大器和开关)的有源沟道材料。
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公开(公告)号：CN115516371A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202180033192.4
申请日：2021-03-19
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种固态光束转向装置，包括：电光材料的主体，其中，电光材料的主体包括掺杂氢的相变金属氧化物的种类中的任何材料，并且其中，主体具有第一面和与第一面相对的第二面；在电光材料的主体的第一面上的第一透明电阻片，其中，第一透明电阻片具有第一侧和第二侧；以及在电光材料的主体的第二面上的透明导体，其中，透明导体耦合到第一透明电阻片的第二侧。
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公开(公告)号：CN115443421A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202180029615.5
申请日：2021-03-02
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种固态电动可变焦距透镜包括电光材料的多个同心环，其中，电光材料包括掺杂氢的相变金属氧化物的种类的任何材料，并且其中，各个相应的同心环还包括：位于相应的同心环的第一面上的透明电阻片，其中，透明电阻片沿着第一面延伸；以及第一电压，该第一电压耦合在透明电阻片的第一端与第二端之间，其中，第一电压能被改变以选择光束偏转角度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115485422B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202180032232.3
申请日：2021-03-19
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种能够在硅和其他衬底上生长厚化学计量结晶且优选地IR透明光学PCMO材料的工艺。在无氧惰性气体(例如，Ar)环境中进行溅射沉积，这有助于防止衬底上的PCMO材料分解。在所公开的工艺中，不需要在PCMO沉积之前增加籽晶层。此外，不需要在高温高压氧气炉中进行沉积后退火，但是退火提供了在提高红外波长下透明度方面的某些额外益处。在高温(≤450℃)衬底上PCMO厚膜的较长沉积时间内，通过以高温沉积PCMO材料并在每次沉积循环之后将PCMO沉积衬底冷却到显著更低的温度(＜450℃)的重复循环来进行PCMO沉积。如果在氢气环境中进行退火，这将使得PCMO膜氢化，从而产生在整个IR范围内具有极少光学损耗(即，光学消光系数k＜0.001)的PCMO膜。
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公开(公告)号：CN111788511A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015843.X
申请日：2019-03-07
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种光学设备可以包括：电可重构的光学层，其包含至少一种相变材料，其中，所述相变材料的光学性质能通过电场重构；光学透明的顶部电极和底部电极，所述顶部电极和所述底部电极被配置为向所述电可重构的光学层施加电场，其中，所述电可重构的光学层设置在光学透明的顶部电极和底部电极之间；以及高K介电层，其设置在所述电可重构的光学层和所述底部电极之间。所述电可重构的光学层的相变材料可以包含相变镍酸盐或氧化钨。所述电可重构的光学层的相变材料可以具有钙钛矿结构。相变镍酸盐或氧化钨可以通过向所述相变材料施加电场以大于1kHz的相重构的高速在红外波长光谱处激发大于1的大折射率变化。
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公开(公告)号：CN104685578B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201380051014.X
申请日：2013-11-08
Applicant: HRL实验室有限责任公司
IPC: H01B5/14
CPC classification number: H01L51/0045 , H01G13/00 , H01L51/0002 , H01Q1/1271 , H01Q1/28 , H01Q1/32 , H01Q1/38 , H01Q9/0407 , H01Q13/10 , H05K1/0274 , H05K1/09 , H05K1/097 , H05K1/181 , H05K3/06 , H05K3/067 , H05K3/4644 , H05K2201/026
Abstract: 描述了一种装置、系统和/或方法，其用于提供光学透明可重构的集成电子组件，如用于与光学透明寄主平台(如玻璃)关联的天线或RF电路。在一个实施例中，可将Ag NW薄膜配置为天线的透明导体和/或无源电路组件(如电容器或电阻器)的互连部件。Ag NW也可用于器件的传输线和/或互连叠层。也可将石墨烯薄膜配置为用于制造有源RF器件(如放大器和开关)的有源沟道材料。
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公开(公告)号：CN115443421B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202180029615.5
申请日：2021-03-02
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种固态电动可变焦距透镜包括电光材料的多个同心环，其中，电光材料包括掺杂氢的相变金属氧化物的种类的任何材料，并且其中，各个相应的同心环还包括：位于相应的同心环的第一面上的透明电阻片，其中，透明电阻片沿着第一面延伸；以及第一电压，该第一电压耦合在透明电阻片的第一端与第二端之间，其中，第一电压能被改变以选择光束偏转角度。
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公开(公告)号：CN115485422A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032232.3
申请日：2021-03-19
Applicant: HRL实验室有限责任公司
Abstract: 一种能够在硅和其他衬底上生长厚化学计量结晶且优选地IR透明光学PCMO材料的工艺。在无氧惰性气体(例如，Ar)环境中进行溅射沉积，这有助于防止衬底上的PCMO材料分解。在所公开的工艺中，不需要在PCMO沉积之前增加籽晶层。此外，不需要在高温高压氧气炉中进行沉积后退火，但是退火提供了在提高红外波长下透明度方面的某些额外益处。在高温(≤450℃)衬底上PCMO厚膜的较长沉积时间内，通过以高温沉积PCMO材料并在每次沉积循环之后将PCMO沉积衬底冷却到显著更低的温度(＜450℃)的重复循环来进行PCMO沉积。如果在氢气环境中进行退火，这将使得PCMO膜氢化，从而产生在整个IR范围内具有极少光学损耗(即，光学消光系数k＜0.001)的PCMO膜。
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