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公开(公告)号:CN101784336A
公开(公告)日:2010-07-21
申请号:CN200880100108.0
申请日:2008-06-20
Applicant: HSM系统公司
CPC classification number: C01B6/243 , B01J20/0248 , B01J20/04 , C01B3/0026 , C01B3/0031 , C01B6/06 , C01B6/24 , Y02E60/327
Abstract: 本发明提供了使用低沸点溶剂或反应介质制备储氢材料的系统和方法。这类溶剂或反应介质的实例包括二甲醚、甲基乙基醚、环氧乙烷和三甲胺。该储氢材料的合成是在所选介质中进行的,并且在合成完成后,按需要通过适度加热除去反应介质。