CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES
    1.
    发明申请
    CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES 审中-公开
    使用相变相的气相清洗清洗工艺

    公开(公告)号:WO1990006189A1

    公开(公告)日:1990-06-14

    申请号:PCT/US1989004674

    申请日:1989-10-23

    CPC classification number: B08B7/0021 C23G5/00

    Abstract: A process for removing two or more contaminants from a substrate in a single process. The substrate to be cleaned is contacted with a dense phase gas at or above the critical pressure thereof. The phase of the dense phase gas is then shifted between the liquid state and the supercritical state by varying the temperature of the dense fluid in a series of steps between temperatures above and below the critical temperature of the dense fluid. After completion of each step in the temperature change, the temperature is maintained for a predetermined period of time in order to allow contact with the substrate and contaminants and removal of the contaminants. At each step in the temperature change, the dense phase gas possesses different cohesive energy density or solubility properties. Thus, this phase shifting of the dense fluid provides removal of a variety of contaminants from the substrate without the necessity of utilizing different solvents. In alternative embodiments, ultraviolet radiation, ultrasonic energy, or reactive dense phase gas or additives may additionally be used.

    PEROXIDE COMPOSITION FOR REMOVING ORGANIC CONTAMINANTS AND METHOD OF USING SAME
    2.
    发明申请
    PEROXIDE COMPOSITION FOR REMOVING ORGANIC CONTAMINANTS AND METHOD OF USING SAME 审中-公开
    用于除去有机污染物的过氧化物组合物及其使用方法

    公开(公告)号:WO1991009987A1

    公开(公告)日:1991-07-11

    申请号:PCT/US1990006464

    申请日:1990-11-08

    CPC classification number: C11D3/3947 C11D3/3942 C23G1/14 H05K3/26

    Abstract: A composition for removing organic contaminants, such as flux residues, from a solid substrate comprises: (a) hydrogen peroxide in the amount of about 3 to 5 percent by weight of the composition; (b) an alkaline compound in sufficient amount to provide a pH of at least 10,5 in the composition; (c) about 0,1 to 0,3 percent by weight of a chosen wetting agent which is unreactive with the hydrogen peroxide and the alkaline compound; and (d) purified water as the balance of the composition. Optionally, the composition may further comprise about 0.5 to 2.0 percent by weight of a chosen metal protective agent. The solid substrate having organic contaminants thereon is exposed to the above-noted composition whereby the organic contaminants are removed from the substrate and are converted into non-toxic and non-hazardous products. Thus, negative environmental impact is avoided by the present process. In an alternative embodiment, the organic contaminant removal is further enhanced by exposing the composition and the organic contaminants on the substrate to ultraviolet radiation.

    Abstract translation: 用于从固体基质除去有机污染物如助焊剂残余物的组合物包括:(a)按组合物重量计约3至5重量%的量的过氧化氢; (b)足够量的碱性化合物以在组合物中提供至少10.5的pH; (c)约0.1至0.3重量%的与过氧化氢和碱性化合物不反应的选择的润湿剂; 和(d)净化水作为组合物的余量。 任选地,组合物还可以包含约0.5至2.0重量%的选择的金属保护剂。 将其上具有有机污染物的固体基质暴露于上述组合物中,由此从基材中除去有机污染物并将其转化为无毒和无害的产品。 因此,本方法避免了对环境的负面影响。 在替代实施例中,通过将基底上的组合物和有机污染物暴露于紫外线辐射来进一步增强有机污染物去除。

    CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES
    3.
    发明授权
    CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES 失效
    使用相变气相的清洗方法

    公开(公告)号:EP0397826B1

    公开(公告)日:1992-12-16

    申请号:EP89912610.6

    申请日:1989-10-23

    CPC classification number: B08B7/0021 C23G5/00

    Abstract: A process for removing two or more contaminants from a substrate in a single process. The substrate to be cleaned is contacted with a dense phase gas at or above the critical pressure thereof. The phase of the dense phase gas is then shifted between the liquid state and the supercritical state by varying the temperature of the dense fluid in a series of steps between temperatures above and below the critical temperature of the dense fluid. After completion of each step in the temperature change, the temperature is maintained for a predetermined period of time in order to allow contact with the substrate and contaminants and removal of the contaminants. At each step in the temperature change, the dense phase gas possesses different cohesive energy density or solubility properties. Thus, this phase shifting of the dense fluid provides removal of a variety of contaminants from the substrate without the necessity of utilizing different solvents. In alternative embodiments, ultraviolet radiation, ultrasonic energy, or reactive dense phase gas or additives may additionally be used.

    PEROXIDE COMPOSITION FOR REMOVING ORGANIC CONTAMINANTS AND METHOD OF USING SAME
    4.
    发明公开
    PEROXIDE COMPOSITION FOR REMOVING ORGANIC CONTAMINANTS AND METHOD OF USING SAME 失效
    过氧化物用于去除污垢和使用方法。

    公开(公告)号:EP0458948A1

    公开(公告)日:1991-12-04

    申请号:EP91901704.0

    申请日:1990-11-08

    CPC classification number: C11D3/3947 C11D3/3942 C23G1/14 H05K3/26

    Abstract: Composition pour éliminer les contaminants organiques, par exemple résidus de fondant, d'un substrat solide. Elle se compose comme suit : (a) de peroxyde d'hydrogène, dont la quantité varie entre environ 3 et 5 % en poids de la composition; (b) d'un composant alcalin en quantité suffisante pour obtenir un pH d'au moins 10,5 dans la composition; (c) entre environ 0,1 et 0,3 % en poids d'un agent humectant qui ne réagit ni au peroxyde d'hydrogène ni au composant alcalin; et (d) d'eau purifiée qui équilibre le tout. Celle-ci peut éventuellement comprendre aussi entre 0,5 et 2 % en poids d'un agent de protection du métal. Le substrat solide souillé de contaminants organiques est exposé à la composition ci-dessus, qui en élimine lesdits contaminants qu'elle transforme en produits non toxiques et sans danger. Ce procédé est donc inoffensif pour l'environnement. Dans un autre mode de réalisation, on améliore l'élimination des contaminants organiques en les exposant, ainsi que la composition, à des rayonnements ultra-violets.

    CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES
    5.
    发明公开
    CLEANING PROCESS USING PHASE SHIFTING OF DENSE PHASE GASES 失效
    清洁过程中使用稠密气体相相移。

    公开(公告)号:EP0397826A1

    公开(公告)日:1990-11-22

    申请号:EP89912610.0

    申请日:1989-10-23

    CPC classification number: B08B7/0021 C23G5/00

    Abstract: Procédé permettant d'enlever en une seule étape deux ou plusieurs contaminants d'un substrat, qui consiste à mettre en contact le substrat à nettoyer avec un gaz à phase dense à une pression égale ou supérieure à sa pression critique, à faire varier ensuite la phase du gaz à phase dense entre l'état liquide et l'état surcritique en modifiant par une série d'étapes la température du fluide dense entre une température supérieure et une température inférieure à la température critique du fluide dense. Après chaque variation de température, cette dernière est maintenue ainsi pendant un laps de temps prédéterminé pour permettre le contact avec le substrat et les contaminants et permettre l'élimination de ceux-ci. A chaque variation de température, le gaz à phase dense présente différentes densités d'énergie cohésive ou propriétés de solubilité. Grâce aux changement de phases du fluide dense, on peut ainsi enlever une pluralité de contaminants du substrat sans devoir utiliser différents solvants. Dans d'autres modes de réalisation, on peut également recourir au traitement par les radiations ultraviolettes, à l'énergie ultrasonique, à un gaz réactif à phase dense ou à des additifs.

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