CLADDING OF SUBSTRATES WITH THICK METAL CIRCUIT PATTERNS
    2.
    发明申请
    CLADDING OF SUBSTRATES WITH THICK METAL CIRCUIT PATTERNS 审中-公开
    具有厚金属电路图案的衬底层压

    公开(公告)号:WO1988005990A1

    公开(公告)日:1988-08-11

    申请号:PCT/US1988000116

    申请日:1988-01-19

    Abstract: A method for forming a circuit on a surface of an insulating substrate (10) comprises the steps of adhering Angstroms thick metallization (16) to the surface of the insulating substrate, placing conductive material (24) on the metallization through a photoresist pattern (20) of the circuit, stripping the resist pattern from the substrate, and removing the metallization not covered by the circuit of the conductive material by use of the conductive material as a resist.

    Abstract translation: 一种用于在绝缘衬底(10)的表面上形成电路的方法包括以下步骤:将厚度厚的金属化物(16)粘合到绝缘衬底的表面上,通过光致抗蚀剂图案(20)将导电材料(24)放置在金属化 ),从衬底剥离抗蚀剂图案,并且通过使用导电材料作为抗蚀剂去除未被导电材料的电路覆盖的金属化。

    METHOD FOR SELECTIVELY REMOVING ADHESIVES FROM POLYIMIDE SUBSTRATES
    6.
    发明公开
    METHOD FOR SELECTIVELY REMOVING ADHESIVES FROM POLYIMIDE SUBSTRATES 失效
    过程,以POLYIMIDTRÄGERPLATTEN黏结剂选择性去除。

    公开(公告)号:EP0248029A1

    公开(公告)日:1987-12-09

    申请号:EP86906129.0

    申请日:1986-09-22

    Abstract: Procédés de formation de trous de taille prédéterminée dans des substrats à base de polyimide sur lesquels adhèrent des couches métalliques. Les procédés consistent à éliminer sélectivement de la couche métallique des zones de taille et de forme désirées; à mettre en contact la couche adhésive exposée avec un décapant sélectif qui n'affecte pas le substrat à base de polyimide ou qui n'affaiblit pas l'adhésif à proximité de l'ouverture formée; et à attaquer de manière sélective le substrat à base de polyimide exposé dans les ouvertures par l'élimination de la couche adhésive recouvrant le polyimide. Ces procédés permettent de former de manière rapide et efficiente des trous possédant un diamètre aussi petit qu'un mil (0,00254 cm).

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