公开(公告)号：DE112015003339B4

公开(公告)日：2022-08-04

申请号：DE112015003339

申请日：2015-07-24

Applicant: IBM ,  SHINETSU CHEMICAL CO

Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  SUNDBERG LINDA KARIN ,  SANCHEZ MARTHA INEZ ,  BOZANO LUISA DOMINICA ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  WATANABE SATOSHI ,  MASUNAGA KEIICHI ,  DOMON DAISUKE ,  KAWAI YOSHIO

IPC: G03F7/004 ,  C08F212/14 ,  G03F7/038

Abstract: Mit wässriger Base entwickelbare Negativresistzusammensetzung, frei von Vernetzungsmitteln und aufweisend:ein multifunktionelles Polymer, bestehend aus ersten Wiederholungseinheiten, welche Löslichkeit in wässrigem basischem Entwickler verleihen, zweiten Wiederholungseinheiten, welche eine Polaritätswechseleinheit enthalten, und dritten Wiederholungseinheiten, welche eine kovalent gebundene Photosäuregenerator-Gruppe enthalten,wobei die ersten Wiederholungseinheiten etwa 50 Mol-% bis etwa 80 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen, die zweiten Wiederholungseinheiten etwa 10 Mol-% bis etwa 40 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen und die dritten Wiederholungseinheiten etwa 1 Mol-% bis etwa 10 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen, undferner aufweisend freien Photosäuregenerator, wobei der freie Photosäuregenerator etwa 1 Gew.-% bis etwa 12,5 Gew.-% der Zusammensetzung ausmacht.

公开(公告)号：JP2011028270A

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：JP2010163887

申请日：2010-07-21

Applicant: Internatl Business Mach Corp ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

Inventor： ITO HIROSHI ,  SUNDBERG LINDA KARIN ,  BOZANO LUISA DOMINICA

IPC: G03F7/039 ,  C07C39/17 ,  C07C69/712 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive type photoresist with improved robustness. SOLUTION: Photoresist composition includes a blend of at least one fully protected calix [4]resorcinarene and at least one unprotected calix [4]resorcinarene, wherein the fully protected calix [4]resorcinarene has a phenol group protected with an acid labile protective group, a photoacid generator, and a solvent. The blend and the photoacid generator are soluble in the solvent. Also disclosed are processes for generating a resist image on a substrate using the photoresist composition. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有改进的鲁棒性的正型光致抗蚀剂。 光致抗蚀剂组合物包括至少一种完全保护的杯[4]间苯二酚和至少一种未保护的杯[4]间苯二酚的共混物，其中完全保护的杯[4]间苯二酚具有用酸不稳定保护的苯酚基团 保护基，光致酸发生剂和溶剂。 共混物和光致酸发生剂可溶于溶剂。 还公开了使用光致抗蚀剂组合物在衬底上产生抗蚀剂图像的方法。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：DE112015003339T5

公开(公告)日：2017-04-13

申请号：DE112015003339

申请日：2015-07-24

Applicant: IBM ,  SHIN-ETSU CHEMICAL CO LTD

Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  MASUNAGA KEIICHI ,  KAWAI YOSHIO ,  SUNDBERG LINDA KARIN ,  SANCHEZ MARTHA INEZ ,  BOZANO LUISA DOMINICA ,  WATANABE SATOSHI ,  DOMON DAISUKE

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038

Abstract: Es wird eine Negativresistzusammensetzung bereitgestellt, welche einen freien Photosäuregenerator und ein multifunktionelles Polymer enthält, welches kovalent an eine Photosäure-Erzeugungseinheit gebunden ist, wobei die Zusammensetzung im Wesentlichen frei von Vernetzungsmitteln ist. Es werden auch multifunktionelle Polymere bereitgestellt, welche in Verbindung mit der Resistzusammensetzung von Nutzen sind, sowie ein Verfahren zum Erzeugen eines Resistbildes auf einem Substrat unter Verwendung der Zusammensetzungen und Polymere der vorliegenden Erfindung.

公开(公告)号：DE102021123289A1

公开(公告)日：2022-04-28

申请号：DE102021123289

申请日：2021-09-08

Applicant: IBM

Inventor： PASTORE VITO PAOLO ,  BIANCO SIMONE ,  MEGIDDO NIMROD ,  FASOLI ANDREA ,  ADEBIYI AMINAT ,  ABDI MOHAMMED ,  MANNARI ALBERTO ,  BOZANO LUISA DOMINICA

IPC: G06V30/19 ,  G06Q10/06

Abstract: Offenbart wird Klassifizierung flüchtiger organischer Verbindungen durch Empfangen von Testdaten im Zusammenhang mit dem Erkennen flüchtiger organischer Verbindungen (VOCs), Analysieren der Testdaten gemäß einem Satz von Datenmerkmalen, die mit bekannten VOCs assoziiert sind, Ermitteln einer Übereinstimmung zwischen jedem Merkmal der Testdaten und einem entsprechenden Merkmal des Satzes von Datenmerkmalen, Erhalten eines Satzes von Übereinstimmungen, Definieren eines ersten Anomaliegrades für die Testdaten gemäß dem Satz von Übereinstimmungen und Klassifizieren der Testdaten gemäß dem ersten Anomaliegrad.