HALO-FREE NON-RECTIFYING CONTACT ON CHIP WITH HALO SOURCE/DRAIN DIFFUSION
    1.
    发明申请
    HALO-FREE NON-RECTIFYING CONTACT ON CHIP WITH HALO SOURCE/DRAIN DIFFUSION 审中-公开
    通过HALO来源/排水扩散进行HALO-FREE非重新接触

    公开(公告)号:WO0195369A3

    公开(公告)日:2002-05-16

    申请号:PCT/GB0102273

    申请日:2001-05-23

    Applicant: IBM IBM UK

    CPC classification number: H01L29/4966 H01L29/1083 H01L29/7835

    Abstract: A semiconductor chip includes a semiconductor substrate having a rectifying contact diffusion and a non-rectifying contact diffusion. A halo diffusion is adjacent the rectifying contact diffusion and no halo diffusion is adjacent the non-rectifying contact diffusion. The rectifying contact diffusion can be a source/drain diffusion of an FET to improve resistance to punch-through. The non-rectifying contact diffusion may be an FET body contact, a lateral diode contact, or a resistor or capacitor contact. Avoiding a halo for non-rectifying contacts reduces series resistance and improves device characteristics. In another embodiment on a chip having devices with halos adjacent diffusions, no halo diffusion is adjacent a rectifying contact diffusion of a lateral diode, significantly improving ideality of the diode and increasing breakdown voltage.

    Abstract translation: 半导体芯片包括具有整流接触扩散和非整流接触扩散的半导体衬底。 光晕扩散与整流接触扩散相邻,并且没有晕圈扩散与非整流接触扩散相邻。 整流接触扩散可以是FET的源极/漏极扩散,以提高耐穿透性。 非整流接触扩散可以是FET体接触,横向二极管接触或电阻或电容器接触。 避免使用非整流触点的光圈可以降低串联电阻并提高器件特性。 在具有相邻扩散的光晕的器件的芯片的另一实施例中,没有卤素扩散与横向二极管的整流接触扩散相邻,从而显着地提高了二极管的理想性并增加了击穿电压。

    CONTACTO NO RECTIFICADOR, EXENTO DE HALO, SOBRE PASTILLAS CON DIFUSION DE FUENTE/CONSUMO DE HALO.

    公开(公告)号:MXPA02011791A

    公开(公告)日:2003-04-10

    申请号:MXPA02011791

    申请日:2001-05-23

    Applicant: IBM UK

    Inventor: CULP JAMES

    Abstract: Una pastilla ("chip") de semiconductor incluye un substrato de semiconductor, que tiene una difusion de contacto rectificador y una difusion de contacto no rectificador. Una difusion de halo esta adyacente a la difusion de contacto rectificador y una difusion no de halo esta adyacente a la difusion de contacto no rectificador. La difusion del contacto rectificador puede ser una difusion de fuente / consumo de un transistor de efecto de campo (FET), para mejorar la resistencia a la perforacion a traves de la misma. La difusion del contacto no rectificador puede ser un contacto de cuerpo de FET, un contacto de diodo lateral o un contacto de resistor o condensador. Evitando un halo para los contactos no rectificadores, se reduce la resistencia en serie y mejora las caracteristicas del dispositivo. En otra modalidad, en una pastilla que tiene dispositivos con difusiones adyacentes de halo, ninguna difusion de halo esta adyacente a la difusion del contacto rectificador de un diodo lateral, mejorando significantemente la idealidad del diodo y aumentando el voltaje de interrupcion.

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