Sposób zwiększenia ilości energii promienistej wprowadzanej do wnętrza monochromatora oraz lampa deuterowa do realizacji tego sposobu

    公开(公告)号:PL401421A1

    公开(公告)日:2014-05-12

    申请号:PL40142112

    申请日:2012-10-30

    Abstract: Przedmiotem wynalazku jest sposób zwiększenia ilości energii promienistej wprowadzanej do wnętrza monochromatora oraz lampa deuterowa do realizacji tego sposobu. W sposobie zwiększenie ilości energii promienistej wprowadzanej do wnętrza monochromatora prowadzi się tworząc wewnątrz lampy deuterowej pozorny obraz przysłony. Obraz ten tworzy się w odległości większej niż odległość, w jakiej od okna wyjściowego lampy umieszczona jest przesłona, korzystnie w odległości dwukrotnie większej. Lampa deuterowa ma przed oknem wyjściowym (3) przystawkę korygującą promieniowanie w postaci pierścienia (5), w którym osadzona jest soczewka (4), przy czym ogniskowa f soczewki spełnia zależność (a) opisana wzorem, gdzie s - odległość przesłony (2) od przedmiotowego punktu głównego H soczewki, s1 - to odległość obrazu (6) przesłony (2) od obrazowego punktu głównego H' soczewki.

    Urządzenie skupiające promieniowanie źródła światła

    公开(公告)号:PL401420A1

    公开(公告)日:2014-05-12

    申请号:PL40142012

    申请日:2012-10-30

    Abstract: Przedmiotem wynalazku jest urządzenie skupiające promieniowanie źródła światła za pomocą elementów optycznych, takich jak soczewki i zwierciadła, na szczelinie monochromatora. Urządzenie to posiada część soczewkową, w której wychodząca ze źródła promieniowania (1) wiązka jest kolimowana oraz bezaberacyjną część zwierciadlaną (3), w której na elemencie ogniskującym jest zakrzywiana pod kątem 90° i kierowana na szczelinę wejściową monochromatora (4) znajdującą się w stałej odległości (L) od elementu ogniskującego. W urządzeniu tym dla określonej długości fali z przedziału 190-700nm, element soczewkowy (2) znajduje się w odpowiedniej odległości od centralnego źródła promieniowania (1). Odległość ta spełnia warunek minimalizacji średniego kwadratowego odchylenia rzeczywistej powierzchni falowej tworzonej przez element (2) od sferycznej powierzchni odniesienia tego elementu.

Patent Agency Ranking