公开(公告)号：WO1995030179A1

公开(公告)日：1995-11-09

申请号：PCT/US1995005470

申请日：1995-05-02

Applicant: INSTRUMENTS SA, INC.

Inventor： INSTRUMENTS SA, INC. ,  CHAU, Chiu ,  LAUDE, Jean-Pierre ,  FLAMAND, Jean

IPC: G03H01/04

CPC classification number: G01J3/1838 ,  G02B5/1857

Abstract: A method for manufacturing an optical grating. A substrate (810) is supported on a rotatable support at a first position relative to a pair of coherent light sources (C, D). A photosensitive layer (818) is formed on the surface of the substrate (810), and a mask (820) is formed over a first portion of the photosensitive layer (818), while leaving a second portion of the photosensitive layer (818) unmasked. The unmasked portion of the photosensitive layer (818) is holographically exposed to an interference light pattern from the light sources (C, D) to form a first grating surface pattern (826). The first grating surface pattern (826) is masked, and the mask (820) over the first portion of the photosensitive layer (818) is removed. The substrate (810) is rotated 180 degrees to a second position and the unmasked first portion is holographically exposed. The exposed photosensitive material is developed to form a grating on the substrate (810).

Abstract translation: 一种光栅的制造方法。 在相对于一对相干光源（C，D）的第一位置，基板（810）被支撑在可旋转支撑件上。 在基板（810）的表面上形成感光层（818），并且在感光层（818）的第一部分上形成掩模（820），同时留下感光层（818）的第二部分， 东窗事发。 感光层（818）的未掩蔽部分被全息地暴露于来自光源（C，D）的干涉光图案以形成第一光栅表面图案（826）。 掩模第一光栅表面图案（826），并且去除感光层（818）的第一部分之上的掩模（820）。 基板（810）旋转180度到第二位置，并且未掩蔽的第一部分被全息曝光。 曝光的感光材料被显影以在基底（810）上形成光栅。