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公开(公告)号：JP2016176104A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015056753
申请日：2015-03-19
Applicant: JXエネルギー株式会社 , 学校法人早稲田大学
Abstract: 【課題】より低抵抗な自立した銅薄膜を効率よく製造することが可能な銅薄膜の製造方法の提供。 【解決手段】アルミニウム及び/又はシリコンと、酸素、窒素及び炭素からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素との化合物によって構成されたセラミック材料又は炭素からなる表面を有する基板表面上に、蒸着源の温度を1200℃以上とし、不活性ガスを流通して全圧を0.001〜10Paの範囲内にして2〜30μmの範囲内の膜厚を有する銅薄膜を形成する工程S1と、形成した銅薄膜を基板表面から薄膜のまま剥離する工程S2とを含む銅薄膜の製造方法。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够有效地制造具有较低电阻的自支撑铜薄膜的铜薄膜的制造方法。解决方案：铜薄膜的制造方法包括：步骤S1，形成 在由具有由铝和/或硅的化合物构成的陶瓷材料构成的表面的基板的表面上具有膜厚度为2-30μm的铜薄膜和选自由氧和/或硅组成的组中的至少一种元素 ，氮气和碳或碳，通过将气相沉积源的温度设定为1200℃以上，循环惰性气体为总压为0.001-10Pa; 以及从基板的表面剥离形成的薄膜状的铜薄膜的步骤S2。图1：
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公开(公告)号：JP2021147309A
公开(公告)日：2021-09-27
申请号：JP2021039571
申请日：2021-03-11
Applicant: 学校法人早稲田大学
IPC: B01J23/745 , C01B21/064
Abstract: 【課題】高純度のBNNTを安全かつ安価に大量に合成できる窒化ホウ素ナノチューブの製造方法および製造装置を提供する。 【解決手段】窒化ホウ素ナノチューブは、反応器11に収容されている触媒15に対しホウ酸蒸気とアンモニアガスとを供給することにより合成することができる。CVD法を用いて、触媒15の存在下でアンモニアガスとホウ酸蒸気とを反応させることにより、触媒15上に高純度の窒化ホウ素ナノチューブを合成及び成長させることができる。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JPWO2020085291A1
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：JP2019041284
申请日：2019-10-21
Abstract: 金属台座(4)上にカーボンナノチューブ層(2)(CNT層2である。以下同じ。)を備えるCNTデバイス(1)(炭素−金属構造体)である。CNT層(2)に、ろう材層(3)を介して金属台座(4)をろう付けする。CNTデバイス(1)を製造する際は、まず、耐熱凹凸基板(6)にCNT層(2)を形成する。次に、耐熱凹凸基板(6)上のCNT層(2)にろう材層(3)を介して金属台座(4)をろう付けする。そして、耐熱凹凸基板(6)から金属台座(4)(およびCNT層2)を剥がして、CNT層(2)を耐熱凹凸基板(6)から金属台座(4)に転写する。
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公开(公告)号：JP2021028284A
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：JP2019147941
申请日：2019-08-09
Applicant: 学校法人早稲田大学 , 株式会社名城ナノカーボン
IPC: C01B32/159 , B82Y40/00 , C01B32/162
Abstract: 【課題】浮遊触媒化学気相成長(FCCVD)法において触媒原料の高温加熱を実現し、合成されるカーボンナノチューブの品質および収量を向上することができるカーボンナノチューブの製造装置および製造方法を提供する。 【解決手段】カーボンナノチューブの製造装置1が、カーボンナノチューブを合成する合成炉2と、合成炉2にカーボンナノチューブを合成するための触媒原料を供給する触媒原料供給ノズル3と、触媒原料供給ノズル3の内腔部4の温度を合成炉2の反応場5の温度よりも高温に設定可能なノズル温度調整手段6とを備える。触媒金属が凝縮しない温度まで触媒原料を加熱して熱分解された触媒原料を合成炉2に供給し、熱分解された触媒原料が合成炉2でCVD温度まで急速冷却されることで微小な触媒金属粒子を反応場5の空間中で高密度に生成して、直径の小さいカーボンナノチューブを高密度に気相成長させることができる。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019149262A
公开(公告)日：2019-09-05
申请号：JP2018032603
申请日：2018-02-26
Applicant: 学校法人早稲田大学
Abstract: 【課題】柔軟導電膜及びその製造方法を提供する。 【解決手段】柔軟導電膜10は、繊維12のスポンジ状構造体14と、スポンジ状構造体14の内部の隙間18に包含された複数の導電性粒子16と、スポンジ状構造体14の内部の隙間18に包含された気体Gとを備えることを特徴とする。柔軟導電膜10は、繊維12と導電性粒子16とが溶媒に分散した分散液を調製する分散液調製工程と、分散液から溶媒を除去する溶媒除去工程とにより製造される。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2015151277A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：JP2014023693
申请日：2014-02-10
Applicant: 保土谷化学工業株式会社 , 学校法人早稲田大学
Abstract: 【課題】従来の気相法微細炭素繊維の製造方法における問題点を解決し、容易に外径細く、分散性の良い、疎な形態の気相微細炭素繊維を効率的に製造する方法を提供すること。 【解決手段】担体前駆体と触媒前駆体を用い、これらを炭素源原料と共に反応炉の上方から導入し、加熱により分解させることで触媒金属を担体に担持させた担持触媒粒子を反応炉内で合成し、そのまま反応炉内で浮遊させながら、炭素源原料と反応して微細炭素繊維を成長させる。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：通过解决气相法细碳纤维的常规制造方法中的问题，提供容易且有效地生产疏水状气相法的细外碳纤维，其具有外径小且分散性优异的方法 。溶液：使用载体前体和催化剂前体，并与碳源原料一起从反应器的上侧引入并通过加热分解。 由此，在反应器中合成通过在载体上负载催化剂金属而形成的负载型催化剂粒子，原样漂浮在反应器中，同时与碳源原料反应，生成细小的碳纤维。
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公开(公告)号：JPWO2018151278A1
公开(公告)日：2019-12-12
申请号：JP2018005587
申请日：2018-02-16
IPC: B01J37/16 , B01J23/745 , C01B32/15 , C01B32/162 , B82Y40/00 , B01J37/02
Abstract: 表面に触媒層を有する支持体に対して、触媒原料と触媒担体原料とを含有する混合溶液を接触させることにより、支持体のうち触媒層を有する表面の少なくとも一部上に、触媒成分と触媒担体成分とを有する混合層を形成する工程Aを含むことを特徴とする、担持触媒の製造方法である。さらに、かかる担持触媒の製造方法が、工程Aの後に、触媒成分を混合層の表層部に偏析させる工程Bを含むことが好ましい。
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公开(公告)号：JP2019045244A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：JP2017166904
申请日：2017-08-31
Applicant: 学校法人早稲田大学 , 国立大学法人名古屋大学
IPC: G01N27/327 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B82Y15/00 , G01N27/30
Abstract: 【課題】櫛型金属電極上に高密度のCNT(カーボンナノチューブ)フォレストを有し、分析対象物を電気化学的に高感度で検出可能な立体型櫛型電極およびその製造方法を提供する。 【解決手段】バイオセンサに応用可能な立体型櫛型電極1において、基板上に第1櫛型金属電極2と第2櫛型金属電極3が交互に配列した構造を有し、前記第1および第2櫛型金属電極2、3の表面に対して略垂直に配列した高密度のCNTフォレストを備えた構成とした。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6455988B2
公开(公告)日：2019-01-23
申请号：JP2016034442
申请日：2016-02-25
Applicant: 学校法人早稲田大学 , 富士フイルム株式会社
IPC: B01J31/22 , C01B32/158
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公开(公告)号：JPWO2017154529A1
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：JP2017006000
申请日：2017-02-17
IPC: C01B32/164 , C01B32/15 , C01B32/162
Abstract: 本発明による繊維状炭素ナノ構造体製造装置100は、担体粒子を用いて、担体粒子上に触媒が担持された粒子状の触媒担持体を調製する調製器10と、触媒担持体上に繊維状炭素ナノ構造体を合成する繊維状炭素ナノ構造体合成器40と、を備える。ここで、調製器10は、テーパ部11及びその底部に配置された排出口12を有する。そして、製造装置100は、排出口12と合成器40内とを連通し、調製器10内にて調製された触媒担持体を合成器40内へ移送可能な第1配管20と、第1ガス供給管30と、排出口12から調製器10内へ第1ガスを供給する第1ガス供給機構と、合成器40内へ第2ガスを供給する第2ガス供給機構と、を備える一方で、第1ガス供給管30と第1配管20との接続部60よりも上側に、触媒担持体の移動を遮断しうる部材を備えない。
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