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    マルチビーム回折格子ベースの背面照明
    1.
    发明专利
    マルチビーム回折格子ベースの背面照明 有权

    公开(公告)号：JP2017084789A

    公开(公告)日：2017-05-18

    申请号：JP2016214688

    申请日：2016-11-01

    Applicant: レイア、インコーポレイテッドLeia Inc. ,  Leia Inc ,  レイア、インコーポレイテッドLeia Inc.

    Inventor： DAVID A FATTAL ,  PENG ZHEN ,  CHARLES M SANTORI

    IPC: F21S2/00 ,  G02B5/18 ,  G02B6/00 ,  G02B27/22 ,  G02F1/13 ,  G02F1/13357 ,  G09F9/00

    Abstract: 【解決手段】マルチビーム回折格子ベースの背面照明は、ライトガイドと、ライトガイドの表面のマルチビーム回折格子とを有する。ライトガイドは、光源からの光を導波する。マルチビーム回折格子は、回折カップリングを用いて導波光の一部分をカップリングして外へ出し、このカップリングして外へ出された部分を、異なる主極大角度方向を有する複数の光ビームとしてライトガイドから離れるように方向付ける。【効果】異なる主極大角度方向を有する複数の光ビームを使用して、3次元(3D)情報を表示することができる。例えば、マルチビーム回折格子により生成された、異なる方向に向けられた複数の光ビームは、変調され、「裸眼」3D電子ディスプレイの複数の画素として作用することができる。【選択図】図5

    WAFER TILING METHOD TO FORM LARGE-AREA MOLD MASTER HAVING SUB-MICROMETER FEATURES
    2.
    发明专利
    WAFER TILING METHOD TO FORM LARGE-AREA MOLD MASTER HAVING SUB-MICROMETER FEATURES 未知

    公开(公告)号：CA3099947A1

    公开(公告)日：2019-12-12

    申请号：CA3099947

    申请日：2018-12-21

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： PENG ZHEN ,  VO SONNY ,  SOICHI EMELINE

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/00

    Abstract: A method of forming a large-area nanoimprint mold master is provided. The method comprises positioning a plurality of sub-master tiles on a rigid planar substrate. Each sub-master tile of the sub-master tile plurality has a nanoscale pattern and represents a subsection of the large-area nanoimprint mold master. The method further comprises adhering the plurality of sub-master tiles to the rigid planar substrate. The positioning determines a distance between a nanoscale feature of the nanoscale pattern on each sub-master tile of a pair of adjacent sub-master tiles. The distance has microscale positioning tolerance. Also provided are a large-area nanoimprint mold master and a method of large-area nanoimprint lithography.

    DIFFRACTIVE BACKLIGHT FABRICATION METHOD
    4.
    发明专利
    DIFFRACTIVE BACKLIGHT FABRICATION METHOD 未知

    公开(公告)号：CA3136673A1

    公开(公告)日：2020-11-05

    申请号：CA3136673

    申请日：2020-04-25

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： HOEKMAN THOMAS ,  FATTAL DAVID A ,  MA MING ,  PENG ZHEN

    IPC: G02F1/1335

    Abstract: Diffractive backlight fabrication employs a diffraction grating to scatter light from a light guide and define a reflective island that is aligned with the diffraction grating. A method of fabricating a diffractive backlight includes providing the light guide having the diffraction grating, diffractively scattering guided light out of the light guide using the diffraction grating to selectively expose photoresist and provide an opening in the photoresist, and depositing a reflective material into the opening to form a reflective island that is aligned with the diffraction grating. A reflective diffraction grating element of the diffractive backlight includes the diffraction grating and reflective island.

    METHOD OF FABRICATING DIFFRACTIVE BACKLIGHT
    5.
    发明专利
    METHOD OF FABRICATING DIFFRACTIVE BACKLIGHT 未知

    公开(公告)号：CA3136670A1

    公开(公告)日：2020-11-05

    申请号：CA3136670

    申请日：2020-04-25

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： HOEKMAN THOMAS ,  FATTAL DAVID A ,  MA MING ,  PENG ZHEN

    IPC: G02F1/01 ,  G02B27/44 ,  G02B30/33 ,  G02F1/13357

    Abstract: Fabricating a diffractive backlight employs a universal grating and selects a portion of the universal grating using a reflective island to define a grating element, a reflective diffraction grating element of the diffractive backlight including the grating element and the reflective island. A method of fabricating a diffractive backlight includes forming the universal grating, forming the reflective island, and selecting a portion of the universal grating using the reflective island to define the grating element. The method of fabricating a diffractive backlight may include forming the reflective island on a light guide surface and forming the universal grating over the reflective island. Alternatively, the method of fabricating a diffractive backlight may include forming the universal grating on the light guide surface and forming the reflective island over the universal grating.

    DIRECTIONAL BACKLIGHT WITH A MODULATION LAYER
    6.
    发明专利
    DIRECTIONAL BACKLIGHT WITH A MODULATION LAYER 未知

    公开(公告)号：HK1205793A1

    公开(公告)日：2015-12-24

    申请号：HK15106381

    申请日：2015-07-06

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： FATTAL DAVID A ,  BRUG JAMES A ,  SANTORI CHARLES M ,  FLORENTINO MARCO ,  PENG ZHEN

    IPC: G02B20060101

    Abstract: A directional backlight is disclosed. The directional backlight has a directional backplane that has a plurality of directional pixels to scatter a plurality of input planar lightbeams into a plurality of directional lightbeams. Each directional lightbeam has a direction and angular spread controlled by characteristics of a directional pixel in the plurality of directional pixels. A modulation layer having a plurality of modulators modulates the plurality of directional lightbeams. The directional backlight can be used to generate a 3D image with multiple views by specifying the characteristics of the directional pixels in the directional backplane.

    WAFER TILING METHOD TO FORM LARGE-AREA MOLD MASTER HAVING SUB-MICROMETER FEATURES
    7.
    发明专利
    WAFER TILING METHOD TO FORM LARGE-AREA MOLD MASTER HAVING SUB-MICROMETER FEATURES 未知

    公开(公告)号：CA3099947C

    公开(公告)日：2022-08-30

    申请号：CA3099947

    申请日：2018-12-21

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： PENG ZHEN ,  VO SONNY ,  SOICHI EMELINE

    IPC: G03F9/00 ,  G03F7/00

    Abstract: A method of forming a large-area nanoimprint mold master is provided. The method comprises positioning a plurality of sub-master tiles on a rigid planar substrate. Each sub-master tile of the sub-master tile plurality has a nanoscale pattern and represents a subsection of the large-area nanoimprint mold master. The method further comprises adhering the plurality of sub-master tiles to the rigid planar substrate. The positioning determines a distance between a nanoscale feature of the nanoscale pattern on each sub-master tile of a pair of adjacent sub-master tiles. The distance has microscale positioning tolerance. Also provided are a large-area nanoimprint mold master and a method of large-area nanoimprint lithography.

    Retroiluminación direccional
    8.
    发明专利
    Retroiluminación direccional 未知

    公开(公告)号：ES2865127T3

    公开(公告)日：2021-10-15

    申请号：ES12877808

    申请日：2012-05-31

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： SANTORI CHARLES M ,  FATTAL DAVID A ,  FIORENTINO MARCO ,  BRUG JAMES A ,  PENG ZHEN

    IPC: F21V8/00 ,  G02B30/50

    Abstract: Una retroiluminación direccional (400, 500, 700, 800, 900, 1100), que comprende: una pluralidad de fuentes de luz (405a-h, 505-515, 705-715, 805-815, 905-915, 1110-1120) para generar una pluralidad de haces de luz planos de entrada (420a-h); y un plano de fondo direccional (425,535, 735, 835, 935, 1105) que comprende una losa de material transparente que tiene una pluralidad de píxeles direccionales (430, 540-550, 740, 840, 940), estand la pluralidad de píxeles direccionales configurados para dispersar cada uno de la pluralidad de haces de luz planos de entrada en una pluralidad de haces de luz direccionales (435), en donde la pluralidad de haces de luz direccionales representa múltiples vistas de imagen que cuando se combinan forman una imagen 3D, en donde solo un haz de luz direccional de la pluralidad de haces de luz direccionales emerge de cada píxel direccional, cada píxel direccional de la pluralidad de píxeles direccionales que comprende una rejilla con patrón que comprende una pluralidad de ranuras sustancialmente paralelas e inclinadas, y configurada para dispersar un haz de luz plano de entrada de la pluralidad de haces de luz planos de entrada en dicho haz de luz unidireccional de la pluralidad de haces de luz direccionales, teniendo dicho haz de luz direccional una dirección y una extensión angular controlada por las características de la rejilla estampada.

    Luz de fondo multi-direccional a base de cuadrícula
    9.
    发明专利
    Luz de fondo multi-direccional a base de cuadrícula 未知

    公开(公告)号：ES2704675T3

    公开(公告)日：2019-03-19

    申请号：ES13890862

    申请日：2013-07-30

    Applicant: LEIA INC

    Inventor： FATTAL DAVID A ,  PENG ZHEN ,  SANTORI CHARLES M

    IPC: F21S2/00 ,  F21V8/00 ,  G02F1/33

    Abstract: Una luz de fondo basada en cuadrículas de difracción multihaz para producir una pluralidad de haces de luz correspondientes a diferentes vistas asociadas con una pantalla tridimensional, que comprende: una guía de luz (110) para guiar la luz (104) desde una fuente de luz (130); caracterizado por una cuadrícula de difracción multihaz (120) en una superficie de la guía de luz, la cuadrícula de difracción multihaz está configurada para acoplar una parte de la luz guiada utilizando un acoplamiento difractivo, y la parte acoplada de la luz guiada se aleja de la superficie de la guía de luz como una pluralidad de haces de luz (102), un haz de luz de la pluralidad que tiene una dirección angular principal diferente de otros haces de luz de la pluralidad.

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