公开(公告)号：WO2013127893A1

公开(公告)日：2013-09-06

申请号：PCT/EP2013/053988

申请日：2013-02-28

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS CMS GMBH

Inventor： LEIMBACH, Volker ,  GUGEL, Hilmar

IPC: G02B27/00

CPC classification number: G02B21/0048 ,  G02B21/008 ,  G02B27/0025

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Scanmikroskopisches Verfahren, bei dem eine Probe mit dem Fokus eines Beleuchtungslichtbündels durch Überlagerung wenigstens einer schnelleren Scanbewegung und einer langsameren Scanbewegung gescannt wird, und bei dem eine ortsabhängige Aberration korrigiert wird. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass die Scanbewegungen derart festgelegt werden, dass die ortsabhängige zu korrigierende Aberration überwiegend in Abhängigkeit von der langsameren Scanbewegung variiert und die Aberration in Abhängigkeit von der langsameren Scanbewegung korrigiert wird. Die Erfindung betrifft außerdem ein Scanmikroskop.

Abstract translation: 本发明涉及在与照明光束的焦点的样本由至少叠加更快的扫描运动和较慢扫描移动扫描的扫描光学显微镜方法，并且其中，取决于位置的像差被校正。 该方法的特征在于，所述扫描运动被确定为使得依赖于位置的在很大程度上取决于较慢扫描运动和像差为较慢扫描运动的函数进行校正来校正象差。 本发明还涉及一种扫描显微镜。

公开(公告)号：WO2019034751A1

公开(公告)日：2019-02-21

申请号：PCT/EP2018/072270

申请日：2018-08-16

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS CMS GMBH

Inventor： KNEBEL, Werner ,  LEIMBACH, Volker ,  SEIFERT, Roland

IPC: G02B21/24 ,  G02B21/26 ,  G02B21/06

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Mikroskopieanordnung (10) mit einem Mikroskopsystem und einer Haltevorrichtung (12), wobei das Mikroskopsystem umfasst ein Mikroskop (14), eine Beleuchtungseinrichtung (16) mit zumindest zwei Lasern (16a, 16b) und Einkoppelelementen (40, 42, 50, 52) zur Einkopplung eines jeden der von den zumindest zwei Lasern (16a, 16b) erzeugten Laserstrahlen (116a, 116b) in das Mikroskop (14), wobei die Haltevorrichtung (12) umfasst eine Instrumentenplattform (22), auf der die zumindest zwei Laser (16a, 16b) der Beleuchtungseinrichtung (16) angeordnet sind, ein Halteelement (24), welches starr einerseits mit der Instrumentenplattform (22), andererseits mit dem Mikroskop (14) verbunden ist, und zumindest ein Stützelement (20), welches dazu ausgelegt ist, die Instrumentenplattform (22) auf einer Basisplattform (18) und beabstandet zu dieser abzustützen, wobei das zumindest eine Stützelement (20) eine veränderliche Höhe aufweist, um die Instrumentenplattform (22) in einem veränderlichen vertikalen Abstand zur Basisplattform (18) anzuordnen, und/oder das Mikroskopsystem einen höhenveränderlichen Mikroskoptisch (34) aufweist, um eine durch den Mikroskoptisch (34) definierte Objektebene (36) in einem veränderlichen vertikalen Abstand zur Basisplattform (18) anzuordnen, sodass die vertikale Erstreckung des Objektbereichs (26) bei unveränderter räumlicher und/oder zeitlicher Beziehung zwischen den Laserstrahlen (116a, 116b) veränderbar ist.

公开(公告)号：WO2017194542A1

公开(公告)日：2017-11-16

申请号：PCT/EP2017/061064

申请日：2017-05-09

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS CMS GMBH

Inventor： GUGEL, Hilmar ,  LEIMBACH, Volker

IPC: G02B27/28

CPC classification number: G02B27/283

Abstract: Im Hinblick auf eine sichere Vereinigung von Lichtstrahlen (1, 2) auch bei Lichtstrahlen (1, 2) aus großen und überlappenden Wellenlängenbereichen mit konstruktiv einfachen Mitteln ist eine Vorrichtung zur Vereinigung von Lichtstrahlen (1, 2) bereitgestellt, wobei ein erster Lichtstrahl (1) mit Licht einer ersten Wellenlänge und ein zweiter Lichtstrahl (2) mit Licht einer zweiten Wellenlänge mittels eines optischen Bauteils zu einem vereinigten Lichtstrahl (3) zusammengeführt werden. Die Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Bauteil ein doppelbrechendes Polarisationsprisma (4) ist. Des Weiteren ist ein entsprechendes Verfahren zur Vereinigung von Lichtstrahlen (1, 2) angegeben.

Abstract translation: 为了即使利用结构简单的装置对波长范围大且重叠的光束（1,2）进行光束（1,2）的安全组合，也提供了一种用于组合的装置 提供光束（1,2），其中具有第一波长的光的第一光束（1）和具有第二波长的光的第二光束（2）通过光学部件组合到组合光束（3）上， 是。 该装置的特征在于光学部件是双折射偏振棱镜（4）。 此外，给出了用于光束（1,2）组合的相应方法。

公开(公告)号：WO2015114000A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/EP2015/051694

申请日：2015-01-28

Applicant: LEICA MICROSYSTEMS CMS GMBH

Inventor： LEIMBACH, Volker ,  MRAWEK, Patric

IPC: G02F1/01 ,  G02F1/03 ,  G02B21/00

CPC classification number: G02F1/0121 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/008 ,  G02F1/0327 ,  G02F2201/505 ,  G02F2202/20

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduktion mechanischer Schwingungen bei elektrooptischen Modulatoren (EOM) (1), insbesondere bei Modulatoren mit LiTa-Kristallen, wobei der EOM (1) über einen Treiber (2) mit pulsförmigem zeitlichem Spannungsverlauf angeregt wird, wobei die Anregung des EOM (1) mit modifizierten Rechtecksignalen oder Rechteckpulsen erfolgt, dergestalt, dass diese aufgrund eines besonderen Flankendesigns eine Anregung mechanischer Schwingungen des EOM (1) reduzieren oder vermeiden. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Anordnung zur Nutzung des erfindungsgemäßen Verfahrens.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在电光调制器（EOM）减少机械振动（1），特别是在调制器LITA晶体，其中所述EOM（1）被通过驱动器（2）与pulsförmigem颞电压曲线激发的激发 ，EOM（1）与改性方波或矩形脉冲，使得减少或避免，因为EOM（1）的振动的特殊边缘设计激励此进行。 本发明还涉及一种装置，用于使用该方法。