公开(公告)号：CN104781016A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201480003040.X

申请日：2014-02-28

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 朴元灿 ,  呂政炫 ,  林艺勋

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/00

CPC classification number: B05C9/10 ,  B05C5/005 ,  B05C5/008 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/02 ,  B05C11/10

Abstract: 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室内的压力振荡，因而能够确保基膜上的涂布稳定性，从而降低缺陷产品的比例。

公开(公告)号：CN104781016B

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201480003040.X

申请日：2014-02-28

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 朴元灿 ,  呂政炫 ,  林艺勋

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/00

CPC classification number: B05C9/10 ,  B05C5/005 ,  B05C5/008 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/02 ,  B05C11/10

Abstract: 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室内的压力振荡，因而能够确保基膜上的涂布稳定性，从而降低缺陷产品的比例。