公开(公告)号：CN105312194A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510463072.4

申请日：2015-07-31

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 尹悳重 ,  林艺勋 ,  洪裕植 ,  文光植

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/00 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明涉及一种涂布装置，本发明的一实施方式涉及的涂布装置，包括：本体，具备流出狭缝，该流出狭缝具有规定的宽度和规定的厚度，以使浆料向外部流出而朝向被涂布体；涂布辊，包含沿着所述流出狭缝的宽度方向延伸的旋转轴，并且自所述本体的流出狭缝隔着规定间距配置，通过旋转来移送被涂布体；控制部，用于向涂布辊的旋转轴施加半径方向的荷载，以便调节所述涂布辊和所述流出狭缝之间的间距。

公开(公告)号：CN105312194B

公开(公告)日：2017-12-26

申请号：CN201510463072.4

申请日：2015-07-31

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 尹悳重 ,  林艺勋 ,  洪裕植 ,  文光植

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/00 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明涉及一种涂布装置，本发明的一实施方式涉及的涂布装置，包括：本体，具备流出狭缝，该流出狭缝具有规定的宽度和规定的厚度，以使浆料向外部流出而朝向被涂布体；涂布辊，包含沿着所述流出狭缝的宽度方向延伸的旋转轴，并且自所述本体的流出狭缝隔着规定间距配置，通过旋转来移送被涂布体；控制部，用于向涂布辊的旋转轴施加半径方向的荷载，以便调节所述涂布辊和所述流出狭缝之间的间距。