公开(公告)号：CN104798223B

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201380060159.6

申请日：2013-11-18

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 黄智英 ,  郑昞圭 ,  黄闰泰 ,  梁世雨 ,  张锡基 ,  金成钟 ,  朴敏洙 ,  具滋训

IPC: H01M2/14

CPC classification number: H01M2/1686 ,  C09J7/22 ,  C09J7/38 ,  C09J7/401 ,  C09J2201/606 ,  C09J2201/622 ,  C09J2203/33 ,  C09J2433/00 ,  H01M2/14 ,  H01M2/145 ,  H01M2/1653 ,  H01M6/02 ,  H01M6/164 ,  H01M10/0431 ,  H01M10/0569 ,  H01M10/0587 ,  H01M2300/0028

Abstract: 本申请涉及一种溶胀胶带以及填充间隙的方法。例如，所述溶胀胶带用于存在流体的间隙内并且变形为三维形状来填充间隙以及当需要时将被间隙间隔的对象固定在合适位置。

公开(公告)号：CN105308103B

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201480032961.9

申请日：2014-06-19

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 梁世雨 ,  南星铉 ,  罗钧日 ,  黄闰泰 ,  郑棕炫 ,  柳惠珉 ,  黄智英 ,  朴恩淑

IPC: C08J5/18 ,  C08L75/04 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B1/08 ,  B29C55/005 ,  B29C55/02 ,  B29C55/023 ,  B29C55/04 ,  B29K2055/00 ,  B29K2075/00 ,  B29L2009/00 ,  B32B27/00 ,  B32B27/08 ,  B32B27/306 ,  B32B27/40 ,  B32B2250/02 ,  B32B2250/24 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2307/42 ,  B32B2307/51 ,  B32B2307/536 ,  B32B2307/54 ,  B32B2307/5825 ,  B32B2307/732 ,  B32B2457/202 ,  B32B2551/00 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/7671 ,  C08J5/18 ,  C08J2375/04 ,  C08J2375/06 ,  G02B5/3025 ,  G02B5/3033 ,  C08G18/10 ,  C08G18/3206

Abstract: 本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功能，例如偏光性能。根据本发明可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等，并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。

公开(公告)号：CN105308103A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201480032961.9

申请日：2014-06-19

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 梁世雨 ,  南星铉 ,  罗钧日 ,  黄闰泰 ,  郑棕炫 ,  柳惠珉 ,  黄智英 ,  朴恩淑

IPC: C08J5/18 ,  C08L75/04 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B1/08 ,  B29C55/005 ,  B29C55/02 ,  B29C55/023 ,  B29C55/04 ,  B29K2055/00 ,  B29K2075/00 ,  B29L2009/00 ,  B32B27/00 ,  B32B27/08 ,  B32B27/306 ,  B32B27/40 ,  B32B2250/02 ,  B32B2250/24 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2307/42 ,  B32B2307/51 ,  B32B2307/536 ,  B32B2307/54 ,  B32B2307/5825 ,  B32B2307/732 ,  B32B2457/202 ,  B32B2551/00 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/7671 ,  C08J5/18 ,  C08J2375/04 ,  C08J2375/06 ,  G02B5/3025 ,  G02B5/3033 ,  C08G18/10 ,  C08G18/3206

Abstract: 本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功能，例如偏光性能。根据本发明可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等，并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。

公开(公告)号：CN104798223A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201380060159.6

申请日：2013-11-18

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 黄智英 ,  郑昞圭 ,  黄闰泰 ,  梁世雨 ,  张锡基 ,  金成钟 ,  朴敏洙 ,  具滋训

IPC: H01M2/14

CPC classification number: H01M2/1686 ,  C09J7/22 ,  C09J7/38 ,  C09J7/401 ,  C09J2201/606 ,  C09J2201/622 ,  C09J2203/33 ,  C09J2433/00 ,  H01M2/14 ,  H01M2/145 ,  H01M2/1653 ,  H01M6/02 ,  H01M6/164 ,  H01M10/0431 ,  H01M10/0569 ,  H01M10/0587 ,  H01M2300/0028

Abstract: 本申请涉及一种溶胀胶带以及填充间隙的方法。例如，所述溶胀胶带用于存在流体的间隙内并且变形为三维形状来填充间隙以及当需要时将被间隙间隔的对象固定在合适位置。